日本“废铁”项目

日本的媒体，在针对中国的自研芯片计划时，高呼着要把中国的光刻设备，弄成一坨“废铁”！就连以谎言著称的BBC都激动了：日本这一举动，对中国的半导体行业来说，绝对是一个巨大的打击！

日本于一月上旬参加以美国为首的“美、日、荷”三国协定，将对更多高端的半导体生产装置实行严格的出口管制，从根源上切断中国半导体研发之路。

日本甚至拿出了自己的杀手锏，那就是光刻胶，用来打压中国的半导体产业，让日本人自信满满，扬言要把中国的半导体产业，全部毁掉，彻底把中国打回低端制造业原形中去！

光刻胶？光刻机用来生产晶圆的重要原料，通过光化学作用，将光学信号转换成化学能，进而将精细图形传递到被加工材料表面。

光刻是最核心和最重要的一步，其所需时间占全芯片制造时间的40%-50%。而光刻胶，则是光刻技术的关键，它的纯度和质量，直接影响到了整个晶片的产量。

而巧合的是，在全球光刻胶领域，对中国芯片进行了最大程度的压制的，正是美国和日本！

卡脖子的光刻胶

目前工艺低于10nm的光刻胶，几乎只有日本公司才能做到。在这道程序中，有十九种常见的材料，有十四种是日本公司生产的。

另外，光刻胶很难保存，只能保存六个月，其他国家也很难提前大量储备。有了这种强大的武器，日本才能在世界范围内，称王称霸。

4年前，日本暂停了对韩国的光刻胶供货，让三星的芯片产品出现了严重的缺陷。

2021年，日本的一场大地震，导致周边的光刻㬵厂全部停产，严重打击了中国新崛起的半导体行业，可以说，没有光刻胶，我们就只能任凭日本人宰割！

中国获得重大进展

但是日本不知道、美国不知道、整个世界都不知道，中国竟然能在如此短的时间内，拥有了自主生产光刻胶的能力！

为了拖慢中国半导体发展速度，防止中国在光刻胶等核心领域有所突破。在美国的要求下，日本于7月份发布了一项禁令，将23种半导体核心设备和材料纳入制裁范围。但是仅仅过去了2个月，美国和日本最不愿看到的事情发生了，我国在光刻胶领域获得重大突破！

九月上旬，南大光电子发布公告称，ArF光刻胶的关键材料已完全独立研发成功，并已完成批量试验，目前正准备大规模测试，意味着光刻机领域我们即将彻底摆脱对美日的依赖。

光刻胶的研究与制造，也被委托给了南大光电，南大光电也没有辜负大家的期望，南大电子的技术主任许从应更是倾尽全力，将全部身家都砸在了这项工程上，而他的这种魄力与魄力，也终于让中国具备了大规模制造光刻胶片的实力。

在此之前，由于光刻胶的技术非常困难，日美两国占据了主导地位。举例来说，日本四大公司：JSR，东京应化，日本信越化工，以及富士，垄断了世界百分之七十的份额。

而如今，他们要面对的是来自东方大国的冲击！

日本破防了

美国联合荷兰、日本，封锁了大量的核心芯片设备和原料，让中国的芯片变得异常艰难，不但封锁了我们的高端芯片，甚至连中低端芯片也不放过。

光刻的成本只占整个过程的20%左右，而其他的半导体器件、原料才能组成完整的流水线，日本限制23种材料和设备的做法，简直就是把事做绝了，比美国和荷兰的禁令更狠！

这无疑会给我们带来很大的冲击，不过事实上，经过了多年发展，其中很大部分我们均已经实现了国产替代。

在镀膜装备方面，我们拥有北方华创，拓荆；刻蚀机方面已经做到了5nm。另外华为Mate60所搭载的麒麟9000S就是国产7nm工艺，所以我国在半导体产业链方面已经远超西方想象！

总结

纵观整个半导体历史，每次的产业迁移都是以新兴的终端市场为基础，并伴随着强大的政策扶持而产生的。对此，我们也有充分的认识，通过各项政策和行业支持，促进光刻胶等重点行业的发展，把它上升到了国家的战略高度。

我们已经撕开了一个口子，中国的光刻胶和芯片，这只是一个开端，相信在举国体制下，未来更多卡脖子设备都会被我们一一攻破，美国霸权衰落已经成为了必然！