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台积电，三星已经决定在2025年量产2nm芯片，这是人类在芯片工艺上的又一重磅探索。不过最终能否造出2nm芯片，最终还得看ASML最新一代的 High-NA EUV 光刻机。

ASML是全球最大的光刻机制造商，而光刻机又是芯片制造的必备工具。ASML已经展示了其最新款的 High-NA EUV 光刻机设备，重150吨，售价高达27亿元！阿斯麦最新光刻机有多恐怖？

光刻机是一种用于微电子芯片制造的关键设备，主要用于将芯片设计图案投影到硅片上，形成芯片上的微小结构。光刻机通过使用紫外光源和光学镜头来实现高分辨率的图案转移，是半导体工艺中至关重要的工具之一。

而ASML是全球领先的光刻机制造商，总部位于荷兰。ASML的光刻机技术实力非常强大，其产品被广泛应用于全球各大半导体制造厂商。

ASML的光刻机在技术水平、精度、稳定性等方面处于行业领先地位，并持续进行技术创新和研发投入，推动了半导体制造工艺的进步。ASML垄断了EUV光刻机市场，没有别的对手能参与竞争。

这一次，ASML更是亮相了新一代的High-NA EUV 光刻机，将对手远远甩在身后。根据ASML公布的数据，High-NA EUV 光刻机重150吨，要安装这台庞然大物就需要半年时间。还要动用250名工程师，内含超过10万个精密零部件，有些零件的调试次数数以百万计。

在运送High-NA EUV 光刻机时，还需要250个集装箱才能运完，可想而知这是多大的工程。越是复杂的设备仪器，往往伴随着高昂的价格。

ASML现款EUV光刻机售价1.7亿欧元，而新款的High-NA EUV 光刻机售价高达3.5亿欧元，折合人民币约27亿元。关键是有钱也未必买得到。

阿斯麦最新光刻机恐怖之处在于无可比拟，ASML的光刻机在半导体行业中具有很高的市场份额，被认为是世界级半导体设备制造商中的佼佼者。

其产品不仅在制造工艺上具有优势，还在服务和技术支持方面表现出色。ASML的光刻机被广泛应用于芯片制造过程中，为半导体产业的发展做出了重要贡献。

预计待High-NA EUV上市后，会让人类的科技水平更上一层楼，让台积电、三星、英特尔等芯片制造商能顺利量产出2nm芯片。不过High-NA EUV光刻机似乎并不是ASML的终点，ASML还在展开更进一步的探索。

ASML首席技术官Brink 提出了Hyper-NA EUV的概念，这是比High-NA EUV更先进的光刻技术，NA 数值将超过 0.7，对应的也就是0.7nm芯片。ASML预计在2030年实现该技术突破，如果能成功，恐怕芯片工艺会实现质的飞跃。

当然，现阶段ASML最主要的目标还是提升High-NA EUV光刻机的产能，这样才能有足够的资本向前迈进。

值得注意的是，High-NA EUV光刻机订单已经有10到20个，所以ASML是不缺客户的，就看谁能获得顶级的High-NA EUV光刻机，角逐下一个芯片工艺时代。

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