当地时间6月11日，荷兰媒体《埃因霍温日报》报道，光刻机巨头ASML（阿斯麦）创始人之一Wim Troost（维姆・特鲁斯特）于6月8日离世，享年98岁。
ASML在领英上发布悼文表示：“我们的创始人之一Wim Troost去世了。在1987年至1990年期间，他担任首席执行官，当时ASML正在努力争取第一个客户。退休后，Wim仍然是ASML和高科技产业的真正大使。他激励了后世的许多人。我们感谢Wim为ASML的DNA和强大的公司文化所做的贡献，以及他的领导能力、毅力和远见。我们向Wim的家人表示哀悼。”
ASML在社交平台X上发文悼念Wim Troost：他的远见、领导力和毅力鼓舞了许多后辈。
40多年前，尚未诞生的ASML还只是飞利浦公司科学与工业（S&I）部门里一个不起眼的小项目——PAS2000（飞利浦自动晶圆步进机）。飞利浦曾因公司自身财务状况欠佳、迟迟没有订单而不止一次想要终止这一项目。
时任S&I副主任的Wim，是当时晶圆步进机的开发人员，他也是在管理团队会议上唯一一个对步进光刻机有兴趣的人，正是他坚持顶着众人反对的压力，利用个人可自由支配的预算维持着项目生命，才使得这一项目找到合作伙伴ASM，才有了如今的ASML。
可以说，是Wim拯救了晶圆步进机，并带领ASML走过至暗时刻，他在ASML公司的创立、崛起过程中起到举足轻重的作用。
当地媒体《维尔德霍芬周刊》对他评价道：“你可以有把握地说：没有Wim Troost，就不会有ASML。”
成立至今40年的ASML，已是全球光刻机市场的主导者，是欧洲市值最高的科技公司，市值达到4141亿美元。除了创始团队的不懈坚持之外，ASML还做对了什么，能够一步步从一个几乎被抛弃的小项目成为如今全球光刻机巨头？
本文接下来将对ASML EUV光刻机进行“拆解”，并对ASML的成长逆袭史进行简要梳理，以此更全面地了解ASML如何做到光刻机霸主地位。虽然它的成功不能复制，但他山之石可以攻玉，正处于寻求国产化替代的我们，或许可以从它的故事借鉴一二。
集全球尖端科技于一身的EUV
90%零部件来自外购
EUV光刻机，也称为极紫外光刻系统，作为半导体芯片制造流程中投资最大、技术难度最高的设备之一，不断地挑战着物理极限和人类工业制造的极限，它的研发难度完全不亚于航空发动机和原子弹，因此也被誉为半导体工业“皇冠上的明珠”（航空发动机则被誉为“现代工业皇冠上的明珠”）。
ASML工程师称，EUV光刻机可能是人类迄今制造的最复杂最精密的机器之一。有多精密呢？它的工作，相当于用波长只有头发直径一万分之一的极紫外光，在晶圆上绘制电路，能够让指甲盖大小的芯片，包含上百亿个晶体管。
虽然半导体芯片的制造通常包括八大工艺——晶圆清洗、光刻、刻蚀、薄膜沉积、扩散、离子注入、机械研磨、金属化，其中每一步都不可或缺，但光刻这一步，可以说直接决定了芯片的集成度。
具体来说，光刻类似于照片冲印技术，利用紫外光线，把掩膜版上的精细电路图，曝光打印到硅片上，因此光刻机也叫掩膜对准曝光机。“打印”的电路图精细度越高，同样大小的晶圆就能容纳更多元件，从而大幅降低芯片成本。
根据公开资料，一台EUV光刻机一共由超过10万个零件组成，重达200吨，运输它需要3架波音747货机、40个货运集装箱和20辆卡车，将其小心翼翼运输至fab后，还需要半年至一年的时间进行安装调试，才能正式运行。
这样一台庞大且复杂的EUV光刻机，售价也相当昂贵，大约为1.2~1.5亿美元，且价格还在不断上涨，其最新一代用于生产2nm芯片的High-NA EUV光刻机，售价预计达到4亿美元（约合人民币27亿元）。
一台EUV工作一天大概需要耗电3万度
但即便EUV售价如此高昂，却仍然订单不断根本不愁卖。据电巢了解，目前ASML无论是DUV还是EUV，都已售罄，现在下单的话，要等到2025年之后才能交付。
可以说，先进光刻机的出现，让人类得以不断挑战芯片制造工艺的极限，让摩尔定律得以不断延续。台积电、三星等芯片代工巨头正是依赖于它，才能够不断突破制程极限，实现7nm、5nm、3nm甚至2nm芯片的量产。因此，全球独此一家的ASML EUV，从诞生起就不担心没有市场。
但是，ASML能够拥有如此称霸全球的绝技，至今垄断着EUV市场，其实并非仅靠一己之力，它的背后集合了全球数千家公司最顶尖的智慧与技术。
据调研，ASML 90%的零部件都来自于外购，ASML只负责掌握最核心技术及集成。根据其公布的最新资料显示，公司供应商多达5000家，主要是来自美国、德国、日本、韩国、中国台湾和荷兰本土的企业，其中美国厂商数量最多。
具体分布为：来自荷兰本土的供应商大约有1600家，占比32%左右，来自北美和亚洲的供应商分别约1350个，占比各27%，来自EMEA地区（欧洲、中东和非洲）的供应商大约有700家，占比14%左右。
很遗憾的是，这5000家供应商，没有一家来自中国大陆
所有的零部件中，最核心的组件为光源和镜头，其中，激光光源的独家供应商为美国Cymer（被ASML于2012年10月收购，以加快EUV的研发进度）；镜头供应商为德国卡尔蔡司（Carl Zeiss ）。
另外，浸没双工作台供应商为ASML和台积电；光学组件来自德国的陶瓷和光学模组制造商Berliner Glas（ASML为了巩固关键部件的供应，已于2020年收购了该公司）；精密加工由德国Heidenhain（海德汉）负责，以及日本KYOCERA（京瓷）也为其提供零部件。
2016年，为了克服10nm以下先进制程良率控制方面的问题，ASML又收购了电子束晶圆检测设备供应商Hemes Microvision（HMI，中文名汉微科），进一步扩大了供应商版图。ASML部分供应商名单如下：
虽然ASML公开资料中显示没有中国大陆供应商，不过根据一些企业自己公布的信息来看，实际上大陆也有少数企业与ASML有着直接或间接的合作，但可能所占份额较小，或所提供零部件并不是关键组件，可替代性较强，因此未引起重视。
值得一提的是，2023年2月2日，中国湖南凯美特气特种气体公司被ASML子公司Cymer列入合格供应商名单，这意味着凯美特气进入了ASML供应链，说明其在光刻气生产领域的生产能力、产品质量得到了认可。
通过ASML供应商拆解，我们看到，ASML实质上就是一个集成商，但它掌握着光刻机最核心的技术。同时为了巩固自己的霸主地位，它还在不断进行收购，已将全球该产业链中最顶尖的企业几乎都纳入自己麾下，形成利益共同体。其它光刻机企业想要再造出能与之匹敌的EUV光刻机，短时间内仅凭一己之力恐怕很难实现。
40年前是摇摇欲坠的“弃子”
如今掌握世界先进芯片命脉
纵观全球光刻机发展史，1984年才成立的ASML，入局已经比当时的光刻机巨头尼康、GCA等晚了10-20年，但它却在30多年时间里实现从一无所有到一方霸主的逆袭，可谓业界传奇。
通过它的逆袭史，我们发现，ASML的成功离不开三大因素——技术、资金以及技术背后的人。
自1978年开始，飞利浦内部就不止一次想要终止对光刻机项目的支持，尽管当时Wim单枪匹马地维持着项目生命，但光刻技术开发时间长、成本高，他仍然数次被公司告知：“停止使用那台该死的光刻机。”他意识到，拯救光刻机业务的唯一出路，是找到一家公司合作。
但当时美国光刻机巨头Perkins Elmer、GCA等都不愿意接管这一项目，直到1984年，在Wim坚持不懈地努力之下，终于促成飞利浦与荷兰半导体设备制造商ASM International公司的合作，ASML自此成立。
ASM创始人普拉多（Athur Del Prado）对于光刻机有着坚定的信念，他对ASML的成功也功不可没
虽然是飞利浦旗下的合资子公司，但ASML成立之初却很不受重视。公司当时的办公地点设在飞利浦门口的一个简易板房里，房顶漏水，门口还放着一个巨大的垃圾箱，办公环境可以说十分恶劣了。更惨的是，当时公司市场份额为０，账户存款空空，被调侃为“买杯咖啡就会破产”的公司。
ASML成立初期的办公室
那时候，ASML的创始团队根本不会想到，30多年后，公司会成为半导体光刻领域无可替代的老大哥。
当时的光刻机市场，属于美国GCA、Perkins Elmer、日本尼康、佳能等几家公司，尤其是尼康，发展势头强劲，在1985年正式超过GCA，成为业界第一大光刻机供应商。那时才刚刚诞生的ASML，完全无法望其项背。
成立后的前几年，ASML都不曾盈利，飞利浦一度对其失去信心。而ASML第一任CEO贾特·斯密特(Gjalt Smit)对技术的一次敏锐预判，改变了公司无人问津的局面。
斯密特在ASML只供职三年便离开，但他对公司的影响一直延续至今
斯密特从一次SEMICON West大会上回来后断言，从大规模集成电路（LSI）到超大规模集成电路（VLSI）的一步显然就在眼前，显然芯片的晶体管尺寸将缩短到1/1000毫米以下，光刻机也不再处理4英寸晶圆，而是转向6英寸。
在这种变化下，产业需要全新一代的光刻机，下一代光刻机必须可以将0.7微米的细节成像到晶圆上，并实现更紧密的微电子集成，但是目前没有人能做成这一套光刻解决方案。
斯密特坚信ASML取得突破的机会来了。但留给他们的时间并不多，必须争取在两年时间内造出新一代光刻机，否则市场很快就会被其它巨头瓜分。
如何在如此短的时间里完成，斯密特选择了一个大胆激进的方式——公司只进行研发和组装，具体模块分包给合作伙伴。他把光刻机拆分成各个模块，专业团队并行开发每个模块，每个模块都有自动通信接口，最终模块组装成整个光刻机。这种模块化研发安排，大大提高了效率。
他们还与合作商建立深度合作关系，及时沟通，打通整个产业链，快速高效运转。
两年后，他们成功推出了第二代产品电动晶圆台光刻机PAS 2500（此前第一代产品步进式光刻机PAS 2000，仅有飞利浦自家友情支持购买了几台），并卖给了美国当时的创业公司赛普拉斯（Cypress），今天的Nor Flash巨头（2022年被英飞凌以101亿美金收购）。
ASML公司对PAS 2500的介绍
1987年，台积电向ASML下单了17台PAS 2500，这一个大订单，让ASML实现了扭亏为盈。在这一时期，Wim Troost也发挥了关键作用，他帮助公司努力争取第一个客户，带领ASML度过摇摇欲坠的至暗时刻，为其之后的发展奠定了基础。
此后十多年时间里，ASML从最初无人问津的小透明，成长为台积电、IBM等公司的供应商，但尼康仍然是横在他们面前的一个强大对手，因为惯性，英特尔、IBM还是更青睐于尼康的设备。想要完全战胜尼康，实现逆袭，当时看来还很难。
而ASML很幸运也很有决心，抓住了下一个弯道超车的机会——加入EUV LLC联盟和选择浸润式光刻机赛道。
20世纪90年代末，市面上的光刻机波长停留在193nm，止步不前，干式193nm光刻机的极限工艺是65nm，如何进入40nm工艺，是每个光刻机厂商面临的难题。
当时，业界提出了各种方法，英特尔则坚定地选择了EUV方法，它和美国能源部牵头，与AMD、摩托罗拉等于1997年组成EUV LLC联盟，验证EUV光刻机的可行性。而将理论变成产品的重任，则被ASML坚定地包揽了过去。
之后的研发过程中，ASML又一次做出与众不同的选择——放弃大家都在研究的干式光刻技术，把“赌注”全部押在了台积电工程师林本坚提出的“浸润式”光刻技术上。
所谓“浸润原理”就是在晶圆光刻胶上方加一层水，水的介质折射率是1.44，因此193nm/1.44≈134nm。因此在不改变光刻机波长情况下，变相扩大了NA，使得193nm波长的能等效出134nm的波长。
之后的几年里，ASML开始紧锣密鼓地研发新设备，并在2004年正式推出浸润式光刻机的原型机。
2006年，ASML的XT 1400i进入英特尔并顺利通过40nm工艺的验证，获得了英特尔的大订单，之后一路高歌猛进，相继签下其它大厂商。
2006年，ASML推出的浸润式光刻机原型机
到了2009年，ASML就已经拿下70%的市场份额，当初的龙头老大尼康，则快速败退，只剩下30%的份额。
此后，ASML越战越勇，一路走向全球EUV光刻机霸主地位。2012年，它又请英特尔、台积电和三星入股公司，以获得更充足的资金进行设备研发与生产。得到三大巨头的资金支持，ASML没有了资金链断裂的顾虑，才有了“花最多的钱，制造最尖端的机器”的底气。
按照ASML自己的说法， EUV真正取得成功是在2018年。它的客户英特尔、三星、台积电，愿意花数十亿美元来购买EUV。说明大家已经开始完全信任EUV技术。
2019年，第一款支持EUV的商业产品发布（三星的Galaxy Note10和Galaxy Note10+智能手机）。2020年开始，ASML的EUV正式进入量产，同年12月，ASML庆祝了第100台EUV出货。
公司员工庆祝第100台EUV的交付
截至 2021 年底，ASML共有127台最新一代EUV光刻机为其全球客户所用。这些“印钞机”一般的机器，为公司带来了上千亿人民币的营收。
ASML的逆袭之路，可谓跌宕起伏，它曾一次次受到行业巨头的轻视，一次次走在破产关停的边缘，但它又一次次地坚定信心，鼓起勇气去寻找机会、去创新、去突破。
当下的中国半导体产业，也正如最初的ASML一样在夹缝中求生，但我们相信，凭借国家政策、资金与人才的力量，我们也会一步一步攻克难关，书写属于我们的传奇。
目前上海微电子已经制造出用于生产90nm制程芯片的光刻机，28nm也正在研发中。给中国企业以时间，我们与国外厂商之间的差距终将一步步缩小，半导体工业皇冠上的明珠，也终将为我们所摘取。
参考资料：
金捷幡：《光刻机之战》
《ASML的登峰之路，给你带来不一样的光刻机故事》
界面新闻：《曾参与创立光刻机巨头ASML的人离世了》
