有最新消息显示，上海微电子已经能够实现最高制程90nm芯片的生产，预计明年可以交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。 其实，SMEE不是设备的名字，而是一家上海微电子装备（集团）股份有限公司的简称，这个公司的官网显示，他们是做半导体工艺的，值得说起的是，从去年三月建厂，SMEE公司已经申请了超过三千项专利，从这也可以看出该公司背后还是有强大技术支持的。

国产光刻机出现但是，就像从光刻机到芯片间有一个很长的产业链，中间任何环节的缺失和落后，都会影响到最终的产品设计。 不过从我国目前的发展来看，我们在光刻机方面也已经突破了28nm，在芯片工艺进程上，这个也是非常重要的一个突破。 而且，我国在碳基芯片方面也取得了重大的突破，对于整体的半导体产业来看，意义也是非常重大的，甚至可以说，将来光刻机已经不再是困扰我国芯片行业发展的难题了。

可以提供大量芯片目前我国的半导体芯片需求量非常大，而本次成功研制出的超分辨率光刻机对于我国的半导体行业而言也是意义重大，相信在将来，必然会改变之前被动的局面。 根据目前的数据表面，这台光刻机一年可以生产三十万片晶圆，而一个晶圆刨除废品以及消耗，大概可以造五百块芯片，假如这些芯片全部用来做类似麒麟这种手机核心芯片的话，可以为四千多万部手机提供芯片，这也是国内手机核心零件独立自强的表现。

​​​​​​工艺成熟靠得住根据公开的数据现实，目前1900型号浸没式光刻机将会在明年量产发货，能够助力我国将芯片量产制造能力扩展到36.5nm节点。 我国之所以之前无法生产出芯片来，主要是因为我国缺少优秀的光刻机；在整个半导体芯片市场内，光刻机也一直都被放在很高的位置上，因为光刻机的精度水平发展，直接影响了国内半导体芯片行业的发展。 根据可靠的消息，这台SMEE光刻机，可以造65nm-90nm的芯片，并且工艺成熟，非常靠得住，用在军工以及家电行业也都没有问题。