15年科研成果出炉，日企正式向ASML光刻机发起挑战！

芯片的研发制造，可以说是目前全球最复杂的工业环节，目前最先进的工艺已经达到了3nm，意味着在指甲盖大小的空间里，需要容纳几百亿根的晶体管，显然这一切只能够依靠EUV光刻机来完成。

一台EUV光刻机集结了人类最顶尖的科技，目前唯一能够制造的ASML也仅能实现10%技术的自主化，意味着有超过90%需要依靠供应链来完成，核心的技术分别源自于20多个国家。

而最核心的光源技术来自于美国，这也让ASML失去了自主的经营权，但凭借着美国的科技霸权，为这家企业闯下了一片天地，ASML算是完全垄断了中高端光刻机市场。

但好景不长，伴随着美国限制的进一步拉近，ASML的垄断地位开始下滑，而日企佳能经过15年的努力，正式官宣开始挑战ASML的地位，将会在今年推出成本更低的纳米压印光刻技术。

根据佳能提供的数据，目前纳米压印技术，已经能够实现5nm的半导体节点宽度，后续还将持续推进2nm工艺的攻克，这项全新的技术不仅降低了设备的采购成本，在后续的造芯层面也将降低成本。

目前ASML的EUV光刻机成本高达1亿美元以上，这并非是普通企业能够承受的，这也导致能够制造高端芯片的厂商寥寥无几，逐步让市场形成了垄断化的局面，而佳能的纳米压印光刻机或将改变这一格局。

受到美国全方位的打压，ASML一直被保护的很好，但芯片规则的不断升级，导致全球化合作体系崩塌，在多元化的发展背景下，各个国家都在想尽办法摆脱对“含美技术”的依赖，EUV光刻机自然成为了众矢之地。

要知道日企可是光刻机的鼻祖，但可惜遭到了美国全方位的制裁，这才有了ASML的成长，但如今佳能想要横空出世并没有那么简单，技术可能没什么问题，但差在了客户群体的差异上。

在“美日荷三方协议”实施之后，日本就官宣了23项造芯设备的出货，这也直接锁死了中企客户，佳能想要以中国市场为突破口的方案，如今想要实施可谓是难上加难。

但也并非完全没有机会，目前ASML在高端的DUV光刻机出货上，同样也遭到了相对应的限制，双方几乎处在同一起跑线上，谁能够解决出货的问题，就能够赢得这场胜利。

但对于佳能而言，也需要进一步证实自己技术的可行性，即便在设备采购价格上要比EUV光刻机低了一半以上，但同样也是一笔不菲的支出，没有人会当一个冤大头，这同样也是佳能需要解决的问题。

但对于中国市场而言，还需要加速自主技术的研发，靠谁都不如靠自己，目前在核心技术上已经实现了突破，中企还需要加把劲实现光刻机的自主化。

只要能够实现28nm光刻机的组装，利用先进的技术就能够满足目前市场的芯片使用需求，对此你们是怎么看的呢？