努力6年后,国产光刻机取得重大突破,外媒:西方的封锁失败了

讲科技头头是道 2024-09-18 22:48:48

说起来,光刻机这个高科技设备,在全球舞台上就那么几位大佬在玩,荷兰的ASML那是绝对的王者,日本的尼康和佳能紧随其后,咱们中国的上海微电子也在努力追赶。但要是论起市场份额,那简直是天差地别——ASML一家独大,占了八成五还多,尼康佳能加起来也就分了点儿汤喝,而咱们的上海微电子,就像是还没上桌的客人,份额几乎可以忽略不计。

那么问题来了,为什么会有今天这样的局面?其实答案很简单,关键就在于技术门槛高得吓人,尤其是那个EUV光刻机,全球就ASML一家能造,简直是技术垄断的代名词。在稍微次一点的浸润式DUV领域,ASML也是霸主,九成五的市场都归它了,尼康只能喝点剩汤。

上海微电子和佳能呢,它们目前主要还在做低端光刻机,就像是小孩子玩的小车车,虽然也能跑,但速度就差了点意思。特别是上海微电子,之前最拿手的SSA600,分辨率才90nm,这在现在的高科技战场上,这分明就是慢动作回放。为啥这么慢?还不是因为美国大哥一直盯着,关键技术、元件都不让咱碰,生怕我们哪天就追上来了。

不过,好消息来了!最近工信部放了个大招,说咱们有了新家伙——两台光刻机!其中一台是氟化氪的,虽然分辨率也就110nm左右,连DUV的边儿都没摸到,但好歹是自家产的,值得鼓励。另一台就厉害了,氟化氩的,波长193nm,分辨率直接干到了65nm,套刻精度也小于等于8nm,这可是实打实的进步!就连外媒都纷纷表示,西方的芯片封锁失败了。

有人可能一听8nm就激动了,以为能造8nm芯片了。其实呢,这个套刻精度跟造芯片的大小不是直接划等号的。它更像是咱们画画时用的细笔,画得越细,线条越多,就越能画出复杂的图案。光刻机也是这样,分辨率不够时,就得分多次画,每次画都要对准,这个对准的误差就是套刻精度。精度越高,画的次数就越多,画出来的芯片就越精细。

当然啦,咱们这台氟化氩光刻机,虽然还不是最顶尖的浸润式,但已经是干式光刻机里的佼佼者了,理论上能摸到65nm的门槛。虽然离造28nm、8nm芯片还有点距离,但别忘了,这可是咱们自己一步一个脚印走出来的成果。

总之,虽然起点低,但咱们有决心、有毅力,一步步往上爬。总有一天,咱们也能造出浸润式光刻机,甚至EUV光刻机,让全世界都看看,中国智造的力量!

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