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芯片制造的极限在哪？恐怕没有人能给出准确答案，因为芯片制程仍在不断向下突破。虽然摩尔定律放缓了，但却没有走到尽头。而芯片工艺之所以能不断突破，和ASML有很大的关系。
这家公司持续开发先进的光刻机产品，比EUV光刻机更先进的NA EUV光刻机也要来了。就在ASML交付2nm光刻机后，日企官宣加入竞赛，外媒：有希望将其打败。
ASML的NA EUV光刻机光刻机是一种用于半导体芯片制造的重要设备。它使用光学投影技术将芯片的图案投射到硅片上，用于制造芯片上的微小结构和电路。ASML是全球领先的光刻机制造商之一。该公司总部位于荷兰，在光刻机技术领域拥有卓越的实力和声誉。
只要想购买高端光刻机产品，就必须和ASML做生意，因为ASML垄断了100%的EUV光刻机市场。倒也不是ASML有意垄断，而是别的厂商还造不出EUV光刻机，无法与之竞争。ASML并不止步于此，更先进的NA EUV光刻机也来了。
根据ASML官方宣布，其已经向英特尔交付了首台高数值孔径系统光刻机。
据了解，ASML的高数值孔径系统是能用于2nm芯片制造的NA EUV光刻机，和传统的光刻机相比，NA EUV光刻机的光学性能更强大，数值孔径也从0.33提升到了0.55，分辨率为8nm。
数值孔径是光刻机镜头的一个重要参数，它决定了光的入射角度和聚焦能力。高数值孔径系统具有更大的数值孔径，使得它能够聚焦更多光线，从而提高光刻图形的清晰度和精度。
ASML已经瞄准2nm芯片制造强势出手了，明年会安排10台NA EUV光刻机的产能，其中有6台已经被英特尔订购了。难道将来的2nm芯片制造市场，要再次被ASML主导了吗？恐怕未必。
日企加入2nm竞赛2nm是全新的芯片市场赛道，台积电已经计划在2025年量产2nm芯片，英特尔的18A工艺也会对标台积电2nm竞争，还有三星更是铆足劲向前冲，势必不会错过2nm芯片制造市场。而这时候，谁能提供相应的制造设备，谁就能瓜分市场大蛋糕。
原以为ASML会一家独大，没想到的是日企也加入2nm竞赛。日本光刻机厂商佳能推出了自己的纳米压印设备，该公司社长御手洗富士夫，纳米压印光刻技术为半导体制造商生产先进芯片开辟了一条新的途径。
佳能的纳米压印设备只要不断对模版进行改进，就有可能造出2nm芯片，而且价格比ASML的光刻机少一位数。
ASML交付2nm光刻机后，佳能的纳米压印设备也入场了，外媒：有希望将其打败。
纳米压印设备也是一种用于制造芯片的先进技术，它通过将模板上的图案压印到芯片表面来实现。
这种技术使用的是类似于印刷的原理，通过对模板进行改进和精确控制，可以实现非常小尺寸的芯片制造。或许半导体产业的变革开始了，ASML，佳能谁主浮沉，不妨拭目以待。
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