在传统的硅基芯片领域，传统的光刻机领域，几十年的风云变幻后，荷兰光刻机巨头ASML似乎依旧是遥遥领先，在全世界一家独大。

但ASML的绝对垄断却成了美西方方肆意打压他国科技的一大筹码，引发了许多人、许多国家的不满。

毫无疑问，世界现在需要一些真正能突破ASML垄断的芯片技术，击碎EUV光刻机这颗“工业明珠”。

于是，重要的事情说三遍：工业明珠告急！工业明珠告急！工业明珠告急！

网友喊话公知：再不努力，工业皇冠上的明珠可就要掉光了！

在日本推纳米压印设备之后，中国竟也推出了石墨烯半导体的研发，抗衡光刻机技术，ASML时代行将结束了？

日本的纳米压印设备

前一段时间，日本半导体厂商佳能推出了纳米压印设备，目前相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的5nm制程。佳能宣称，未来甚至有望通过改进掩膜板做到2nm制程。

纳米压印技术是一种通过模具将纳米尺度的图案转移到半导体材料表面的加工方法，如今它在半导体领域具有广泛的应用。

芯片光刻是制造集成电路的重要工艺步骤之一，它通过在光刻胶层上投射光源，形成所需的图案。

而纳米压印技术能够在光刻胶层上制造出纳米级别的图案，从而可以实现更高分辨率的图案制造。

通过纳米压印技术，可以实现更高分辨率的芯片光刻，从而提高了芯片的集成度和性能。此外，纳米压印技术还具有高效、低成本等优势，

日本之后，中国也找到新道路：石墨烯突破

继日本的纳米压印技术之后，中国也找到了国产自主的新道路。

天津大学科研团队立大功，使用特殊的熔炉，实现了在碳化硅晶片上生长石墨烯，成功制备了外延石墨烯材料，即将石墨烯附着在了碳化硅晶体表面。

这也是全球第一个由石墨烯制造出的功能半导体，无不彰显了中国的技术创新能力。

石墨烯是一种由单层碳原子组成的二维晶体结构材料，具有出色的电学、热学和力学性能，因此在半导体领域具有广泛的应用潜力。

因为，高电导率和高载流子迁移率、极高的化学稳定性，石墨烯材料在半导体领域有着广泛的应用前景，可以用于制作电极、掩模、传感器和柔性电子器件等。

中国的突破，为未来半导体器件的性能提升和芯片新材料的开发提供了新的可能性。

目前，天冿大学研究团队还处于理论研究阶段，离大规模应用还有一定距离，却也为中国芯铺开了一条道路。

西方的“工业明珠”，从大型飞机到微小的芯片，一个一个又一个，正在不断地被我们突破，ASML等美西方巨头的时代，终将结束。