自从“芯战”爆发以来，美方就把“光刻机”当成了打压我国半导体产业的一把“利刃”！

为了彻底堵死中国芯的出路，美方不仅严格限制EUV光刻机，而且在去年底还与日、荷签订三方协议，如今就连很多中高端DUV光刻机也被纳入了“管制清单”。

可即便如此，美方仍不满足。就在前不久，环球时报等多家媒体爆料，称由于美方不断施压，荷兰ASML计划停止对中国客户的光刻机设备进行检修等售后服务，同时也不再对中企出售1980Di等光刻机型号。

要知道，仅仅是2024年上半年，我们就斥资350亿巨款向ASML采购了约88台光刻机，可如今他们刚把钱赚到手，就意欲过河拆桥。业内估计，最快到明年，我们已购入的一些光刻机设备可能就无法正常运行了，对于正处爬坡破冰阶段的中国芯而言，这无疑是个沉重的打击。

但让人感到振奋的是，就在美方和荷兰ASML宣布扩大禁令不到一周的时间，国内就传出了重磅好消息。估计欧美这次要集体“破防”了，他们的“光刻机讹诈”手段或彻底失效！

在9月上旬，工信部发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，其中，两款国产光刻机赫然在列，尤其是氟化氩光刻机，其波长为193nm，属于深紫外光DUV范畴，分辨率在65nm以下，其套刻精度更是达到了比8nm更小的水准！

此目录一经公示，迅速引起了全球科技界的广泛关注。对于套刻精度≤8nm这些参数，很多网友普遍认为是可以制造8nm及以下先进芯片的意思，其实并非如此，套刻精度其实指的的是曝光的误差，它与芯片量产工艺一般呈1:3的比例。

也就是说，这台氟化氩光刻机能够适用于28nm成熟芯片的制造，属于初级DUV设备。不可否认，这与ASML的顶级光刻机设备仍有很大的差距，但却丝毫不影响其诞生的重大意义。

要知道，全球只有四家厂商能够生产用于芯片制造的光刻机设备，除了荷兰ASML以及日本尼康和佳能之外，再有就是我国的上海微电子。

之前，上海微电子能够生产的最先进光刻机制程只有区区90nm的水平，如今则迭代到了65nm，可以说迈出了极为关键的一步！更重要的是，这标志着我们在不依赖ASML等国外供应商的情况下，已经完全具备了独立制造生产28nm成熟芯片的能力。

虽然全球芯片工艺目前已经发展到了2nm的水准，但市场的主流需求仍是28nm等成熟工艺，例如航天航空、智能家电，以及当下非常火爆的新能源汽车产业等等，用到的绝大部分芯片都是成熟制程。

因此，这台氟化氩光刻机设备堪称是国内半导体产业一次“里程碑”式的突破，让我们摆脱对美西方依赖的同时，也为国内接下来研发更高端的光刻机设备奠定了坚实的基础。而且，这也是我们对“美西方光刻机封锁”一次强有力的反击！

现在该轮到欧美着急了！“芯战”已持续四年，美方几乎把能用的制裁手段全都用了个遍，可结果却适得其反，进一步促进了中国半导体产业的发展。

还有荷兰ASML，如今估计很焦虑，大陆市场原本是其最主要的营收来源之一，尤其是中低端光刻机，为其创造的利润占比一度高达49%。可荷兰却没能扛住老美的施压，这可把ASML给坑苦了，能够对中企销售的光刻机型号越来越少，损失惨重。

如今随着我们的成熟制程光刻机设备开启全面国产化替代，ASML在大陆市场的处境更是“雪上加霜”，搞不好，未来甚至可能会被彻底排除在外，届时，美芯的日子恐怕也不会好过。这就是美西方与大陆半导体“脱钩”的代价，只能说自食其果。