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ASML的光刻机是制造芯片的必要设备，如果没有光刻机，芯片的图案就无法转移到晶圆表面，也就没有后续的刻蚀，封装等步骤了。

但光刻机也存在一定的弊端，功耗大，价格昂贵，还有价无市，所以一些厂商正在探索全新的出路。终于EUV光刻机破局者出现，今年实现5nm量产，2026年实现2nm。

芯片制造技术一直是科技产业的核心领域之一，业内对芯片制造的需求不断增长，而欧洲光刻机制造商ASML的EUV光刻机一直被认为是目前最先进的芯片制造工具之一。

EUV光刻机的核心技术是使用波长极短的极紫外光进行曝光，通常波长在13.5纳米左右。这种极紫外光能够实现更高的分辨率，因为其波长更短，可以更精细地描绘芯片上的图形。但EUV光刻机也存在较大的缺陷，功耗大，价格昂贵，很容易被卡脖子。

因此，行业一直在探索更加高效、成本更低的替代方案。其中纳米压印光刻技术作为一种新兴的替代方案备受关注。

这种技术通过在芯片表面上施加压力来实现图案的转移，相比传统的光刻技术，纳米压印光刻技术具有成本低、效率高等优势，被认为是未来芯片制造的一种重要发展方向。

关键时刻日本著名科技公司佳能公司推出了采用纳米压印技术的光刻设备FPA-1200NZ2C，引领了芯片制造行业的新趋势。

据佳能公司介绍，这款设备能够实现5纳米工艺的量产，预计到2026年将实现2纳米工艺的生产，为未来芯片制造提供了更加先进的解决方案。这种技术不仅能够提高生产效率，降低制造成本，还有望推动芯片制造工艺向更加精密、先进的方向发展。

ASML屹立在全球芯片制造行业的金字塔顶端，有EUV光刻机制造技术在手，ASML 就能立于光刻机行业的不败之地。但如果不在光刻机领域竞争，ASML就变得可有可无了。

现在有了佳能的纳米压印设备，已经成为EUV光刻机的破局者，打破ASML的神话，恐怕ASML该着急了。

若佳能的纳米压印设备能够成功挑战ASML的EUV光刻机，这意味着ASML可能会面临市场份额和技术优势的丧失，进而影响其在半导体设备制造领域的地位。

ASML在EUV光刻技术的研发和应用上投入了大量资金和资源，如果失去对这一关键技术领域的控制，将面临竞争的压力和市场份额的流失。佳能打造纳米压印设备，肯定是冲着大规模产业化去的，否则没必要耗费大量人力物力。

试想一下，当市场上出现比EUV光刻机更便宜的设备，生产效率更高，一样能制造高端芯片的产品，客户会如何选择，几乎是闭眼入。佳能的纳米压印设备能否提供给中国尚未可知，但可以明确的一点是，中国也会积极探索，实现芯片制造技术的自主可控。

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