2024年1月，荷兰政府取消ASML旗下高级型号DUV光刻机，今年起不再向中国大陆发送相关型号光刻机。

不仅如此，对于某些中国|“先进芯片代工厂”，连一些中端DUV光刻机也无法获得出口许可。

那么，国产7纳米芯片从哪里来？我们来分析一下。

中国最先进制程可以制造7纳米芯片，这是公开的消息。中芯2021左右就传出7纳米的消息。

众所周知的是，22纳米以下的几代制程，都是采用鳍片晶体管结构（FinFET）的缩放。在这个尺度上，2019-2024年，我国芯片制程的瓶颈并不在光刻机上。

也就是说，这个阶段，光刻机制裁的直接影响还没有显现出来。

所以从2020到2024年，如果按照两年一代的话，2020年14纳米试产，2022年7纳米试产，2024年5纳米试产是正常进度。

在荷兰吊销高级duv光刻机许可了之前，中国企业已经采购了大量的高级型号的duv光刻机，这些光刻机基本上可以满足7纳米甚至5纳米制程的需求。

当然，良率是另一回事儿。

整体上分析，所谓的国产7纳米芯片甚至5纳米芯片，仍然采用的是进口的高级型号duv光刻机完成的。

我曾经多次撰文指出，28纳米光刻机并不能直接用来生产14纳米芯片或者是7纳米芯片。这其中主要包括三个方面的问题：

1，光学系统的实际分辨率的问题，而不是理论分辨率。

2，光刻机机台的控制精度问题。

3，材料和工艺问题。

因此，目前国产7纳米芯片，并不等同于“全国产供应链7纳米芯片”。

目前，采用ASML的高级型号的DUV光刻机以及上一代的FinFET晶体管构架，的确可以发挥其极限性能，甚至达到5纳米芯片的分辨率。

但是，ASML已经推出第一代和第二代EUV光刻机，并且依托于EUV光刻机，全球半导体产业已经开始导入新一代、新二代的晶体管构架，将中国的差距不断的拉大，这是被掩盖在“遥遥领先”的口号之下的--

真正的光刻机困局！