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芯片工艺不断升级，数年前市面上最先进的芯片工艺是7nm，5nm，现在已经到了3nm的水准，甚至到2025年台积电和三星还会量产出2nm芯片。
在如此重大的芯片工艺突破下，追求极致工艺的客户趋之若鹜，美国也频繁修改芯片规则，把越来越多的先进制程纳入管控。不过芯片工艺的提升真的有质的飞跃吗？一定要EUV光刻机才能造7nm以下芯片吗？
关于这些问题，著名通信专家项立刚提出了自己的观点：台积电不断升级芯片制程，是一个惊天大骗局！
高端工艺的角逐7nm芯片工艺是一个分水岭，往下的6nm，5nm被视为高端工艺，往上的10nm，14nm属于成熟工艺。而要想造出7nm及以下的芯片，在大部分人的认知中就需要ASML的EUV光刻机了。
关键在于，美国等西方国家严格限制EUV光刻机出货，中国大陆至今都没有一台EUV光刻机，这也导致想要生产出7nm及以下的芯片变得十分困难。久而久之，让很多人形成生产高端芯片就必须使用EUV光刻机的印象，而这也是行业遍布存在的规则。
当然，这也能理解，毕竟好的设备能够提高芯片制造的良率。所以当台积电，三星试图生产2nm芯片时，现有的EUV光刻机就不够用了，必须使用更先进的设备。
于是ASML推出了新一代的High-NA EUV光刻机，这类光刻机设备一台价值27亿人民币，重达150吨，价格昂贵不说，还有价无市。即便如此，High-NA EUV光刻机还是供不应求，目前已经产生10到20个订单。
毫无疑问，High-NA EUV光刻机同样无法出货到中国大陆，难道高端工艺的角逐要与我们无缘了？项立刚一语惊醒梦中人。
项立刚揭露骗局著名通信专家项立刚说了这么一番话，大致意思是者认为全球芯片行业被台积电的做法所影响，认为不断提升制程至7nm以下必须依赖昂贵的EUV光刻机，而这种说法被认为是一个趋势，甚至有可能被用来限制中国的发展。
项立刚还表示台积电的制程提升实际上是一个骗局，并提到中国即将大量生产5nm芯片的报道，质疑中国如何在没有EUV光刻机的情况下实现这一目标。
纵观项立刚的言论，核心观点只有一个，并不是生产7nm以下芯片就必须使用EUV光刻机，台积电所谓的5nm，3nm工艺提升都是虚标的，必须使用EUV才能生产7nm以下芯片就是一个惊天骗局。
太狠了，项立刚直接将矛头指向了台积电不断升级芯片制程，别看台积电持续突破5nm，3nm，但实际上使用DUV光刻机也一样能造出符合市场需求的芯片。项立刚揭露的这个骗局是否符合实际情况呢？
其实是有一定佐证的，华为麒麟9000S芯片卷土重来，搭载于Mate60系列大卖，麒麟9000S芯片在大陆被制造出来，没有使用美国技术，也没有EUV光刻机的支持。但是麒麟9000S芯片发挥出来的流畅性不比台积电造出的5nm芯片差多少。
或许要不了多久，中国凭借现有的工艺技术，也能大有作为。
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