工信部2024年首台重大设备推广应用名单里，出现了一个ArF光刻机，其分辨率是65纳米，套刻精度8纳米。

工信部2024年首台重大设备推广应用名单

这是一个典型的65纳米干式DUV光刻机的参数，大约和阿斯麦20年前的机台差不多。但是，不明真相的网友被一些自媒体误导，把套刻精度8纳米，当成了分辨率，所以编造出来一个“8纳米光刻机”的虚假消息来。

知名网络博主“Jim博士”已经撰文详细介绍过65纳米分辨率（也就是65纳米节点光刻机）的资料，今天我们继续详细谈谈65纳米光刻机的核心--DUV镜头。

大家还记得德国光学巨头卡尔·蔡司吗？

20年前，阿斯麦推出65纳米分辨率的DUV光刻机XT:1460K，彼时的核心光学系统供应商，就是蔡司。

20年前阿斯麦的65纳米分辨率光刻机XT:1460K

我们回顾一下蔡司和阿斯麦的合作历史：

40多年前的1982年，蔡司开始为阿斯麦生产365纳米波长的光刻机镜头，分辨率是800纳米。

到了20多年前的1998年，蔡司为阿斯麦生产了第一个193纳米ArF光源的镜头，型号是Starlith 900，光学分辨率是100纳米以下。

阿斯麦对应的光刻机就是著名的PAS5500/900。

到了20年前，蔡司为阿斯麦开发了升级的193纳米波长光源的光学系统--Starlith1460（数值孔径0.65–0.93），它的分辨率达到55纳米。阿斯麦相对应的光刻机型号是XT:1460K。

这个型号，差不多就是中信部2024年首台重大设备推广名单中的“65纳米分辨率光刻机”（实际上，这套设备有没有双件台仍然存疑）。

到这以后，2005年蔡司完成了第一个折反浸没式镜头，Starlith1700i。

Starlith1700i的数值孔径可以在NA0.93-1.2之间选配，分辨率最高45纳米！

之后，蔡司又在2007年完成了升级的折反浸没式镜头,数值孔径达到NA1.35的Starlith1900i，完成了193纳米ArF光刻机极限分辨率38纳米的壮举。

所以，阿斯麦的NXT:1900i以上的光刻机，都是具有最高数值孔径NA1.35的镜头系统。

所以，我们可以肯定的说，分辨率小于65纳米型号的193纳米ArF光源的DUV光刻机，大抵相当于20年前的阿斯麦XT:1460K，它采用的是德国蔡司的Starlith 1460镜头。

那么，从65纳米光刻机（实际单次曝光分辨率65纳米），到28纳米光刻机（实际单次曝光38纳米分辨率）还有多远呢？

简单来说：

1，需要从干式光学系统拓展到浸没式光学系统；

2，需要跨越到高数值孔径1.35纳米的折反式镜头设计。

我们下期见！