项中专吹牛皮，说三折叠是人类最高水平。真丢人。

大批文科伪正能量蜂拥而上，吹捧三折叠，说比4纳米芯片折叠到2纳米芯片厉害。笑死人了。

我前文给项中专讲解4纳米芯片到2纳米芯片需要克服新的物理规律导致的物理极限。很多伪正能量根本听不懂。我就讲得通俗一点吧。

在7纳米以下工艺，EUV光刻曝光时，开始出现纳米尺度下的随机缺陷问题。

随机缺陷是极其罕见但致命的图形化失败，例如相邻线之间的桥接、线断裂和孔/点图案缺失，均低于 20 nm 范围。

由于在 300 毫米的晶圆上甚至在单次曝光视场上形成的曝光特征超过 1 万亿个，因此需要将随机缺陷的概率抑制在百万至十亿分之一以下。

这种随机缺陷诱导良率出现塌缩，比如下图，EUV光刻曝光某种光刻胶，它在11纳米的时候还可以勉强工作，但是在10纳米的时候直接就报废了。

项立刚、张维为们哪里懂这个？