2017年，中科院发布喜讯，“极紫外光刻关键技术研究”通过验收。

在绝大多数网友为此“沸腾8年”之久的时候，其实很少人真正的清楚，同期，还有一个DUV光刻机技术正在研发，那就是数值孔径0.75NA、分辨率为90纳米的DUV镜头。

下图就是2018年验收的这套数值孔径0.75NA、分辨率为90纳米的DUV镜头，型号Epolith A075。

下图就是这套系统的曝光结果，图中的线条是85纳米分辨率。

制作这套镜头，花了9年时间。而工艺水平，可能是阿斯麦供应商、德国蔡司30年前的水平。

它的镜头虽然是0.75NA，但是其他光学指标远远低于阿斯麦的65纳米分辨率光刻机的Starlith 1460镜头。

其实至少稍微了解一丢丢光刻机分辨率的知识，就知道，这个镜头稍微升级一丢丢数值孔径，就是传说中的65纳米分辨率镜头！

阿斯麦的XT:1460K的数值孔径在0.63-0.93NA区间。

但是，且慢，我可没说，工信部公布的65纳米分辨率光刻机的镜头，来自上面的这个项目哦！

你要是问，为什么项中专说任何一个成熟的工业产品，他没有3-5年做不出来的；而很显然这种20年前蔡司成熟的低端DUV镜头、20年前成熟的阿斯麦低端DUV光刻机，仍需要花15-20年以上的时间研发？难道是德国工程师螺丝打得好么？

呵呵。