前篇文章我给大家简单介绍了一下阿斯麦的65分辨率光刻机，它采用的是20年前德国蔡司生产的干式DUV光学系统。

大家都很关心2024年正在如火如荼入驻晶圆厂的2纳米EUV光刻机，是不是一群工人坐在一起打了10万个螺丝就搞定的呢？

蔡司的2纳米EUV光刻机光学投影系统，它包含40000个零件

随着2纳EUV光刻机进驻各大半导体厂商，蔡司也公布了2纳米EUV光学的一些数据：

2纳米EUV光刻机的光学系统主要包含两部分，一部分是六镜头的反射系统，一部分是照明系统。

照明系统由大约 25,000 个部件组成，重达 6 吨以上。

六镜头投影光学元件有 40,000 多个部件，重约 12 吨。

为了开发2纳米EUV光刻机，蔡司投入了1,000万工时。

一个开发人员一年工作200天每天8小时就是1600工时。1,000万个工时大约就是6000工年。

为了这项技术，蔡司前后花了二十五年的时间，发表1500个专利，有1200个合作伙伴。

有些人看到一篇EUV的相关技术专利，就认为马上EUV光刻机出来了。是不是科盲？

有些人一看到光刻机就认为10万个零件里面8万个都是螺丝，是不是科盲？

如果花了20年时间造出了蔡司20年前的65纳米分辨率的干式EUV光学系统，那么需要多少时间造出来蔡司花了20年时间造出来的2纳米光学系统呢？

我们下期见!