2024年1月1日，据ASML官网声明，荷兰政府撤销了NXT:2050i和NXT:2100i的部分出货许可。
图源：ASML官网
ASML在声明中透露，这将对公司在中国的个别客户产生影响。同时，该公司预计此次出口许可证撤销及最新的美国出口管制限制不会对2023年的财务情况产生重大影响。
ASML光刻机限制升级
更先进的DUV光刻机被禁
光刻是芯片制造的重要环节。以光源波长划分，光刻机分为UV（紫外线）、DUV（深紫外线）、EUV（极紫外线）。
DUV光刻机被用于生产28nm及更成熟制程的芯片，理论上最高能制备7nm，主要供应商有荷兰ASML、日本尼康、日本佳能等。
作为半导体芯片制造的重要工具，近年来，美日荷等半导体设备巨头对其管制力度逐步加大。
2023年9月，荷兰最新芯片出口管制措施生效。据当时ASML发言人表示，该公司曾向荷兰政府提出了相关出口许可证申请。“荷兰政府也已颁发了公司截至9月1日所需的许可证，允许ASML2023年继续发运TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。”
ASML DUV光刻机型号一览（图源：ASML）
而2024年初，ASML所持有的出口许可证被吊销。关于此次限制的具体内容，据ASML介绍，TWINSCAN NXT:2050i为一款高生产率、双级浸没式光刻工具，专为在先进节点批量生产 300 毫米晶圆而设计。
TWINSCAN NXT:2050i 采用最先进的浸没式光刻系统设计与先进镜头设计的结合，其数值孔径 (NA)为 1.35，每小时能够生产 295 片晶圆，每天能够额外交付 400 至 500 个晶圆，能够更快地加速并更准确地执行运动。
NXT:2050i
TWINSCAN NXT:2100i 是TWINSCAN NXT:2050i的后继产品。其新的硬件和软件创新使单机覆盖率提高了 10% (0.9 nm)，匹配机覆盖率提高了 13% (1.3 nm)，每小时晶圆产量为295片。
NXT:2100i 采用了新的镜头畸变操纵器，为芯片制造商提供了前所未有的校正能力，使系统能够改善 DUV-EUV 交叉匹配叠加。
NXT:2100i
大陆进口设备激增5倍多
拜登正严堵中国半导体
此次ASML的最新公告验证了此前预警，大陆企业对此也有所准备。
据中国海关数据显示，7至11月期间，大陆进口的微影设备激增五倍多，达到37亿美元。另有调查显示，2023年7-9月，大陆半导体设备进口额比上年同期增长了90%。
据统计，在ASML2023年7-9月的营业收入中，大陆所占的比率达到46%，比率远高于前一季的24%，与2022年的14%相比也大幅上升。
ASML即将离任的首席执行官温彼得（Peter Wennink）10月说道，新的限制措施将影响该公司多达15%在中国大陆的销售额。而温彼得公开反对这些措施并警告，这些措施可能激励中国开发竞争性技术：“你给他们施加的压力愈大，他们就愈可能加倍努力。
除了荷兰，日本的半导体设备也受到中国企业的青睐。日本最大的半导体设备商Tokyo Electron社长河合利树表示：“(大陆的)新客户增加了约20～30家”。Tokyo Electron还表示“已经获得订单，2024年上半年(大陆比例)将继续占到4成左右”。
虽目前大陆企业对半导体设备的出口管制有所准备，但从大陆企业大量采购海外成熟制程的半导体设备来看，国产半导体设备大体上仍旧不能满足国内半导体产业未来一定时间内的生产需求。
据CINNO Research统计数据表明，2023年Q3全球半导体设备厂商市场规模Top10营收合计超250亿美元。
图源：CINNO · IC Research
随着2024年全球半导体市场的持续回暖，我们预期国内半导体设备市场规模将持续增长，经过不断的努力和研发，国产设备的市场份额和渗透率定会有望逐步提升。
中国的光刻机之路
在2000年左右，我国才开始大规模投入光刻机的研发，并建立了多个光刻机研发和生产基地。经过20多年的努力，目前已有多款光刻机投入生产，其中最先进的是SMEE的ECLIPSE系列，能够实现28纳米的分辨率，与此同时华大、北方华创、中微半导体等企业也逐渐开始崭露头角。
近两年，国内厂商的追赶情况大致如下：
如今，我国光刻机攻尖采取类ASML的模式，细分各科研院所、高校做分系统，再由SMEE进行整机组装。中科院微电子所、长光所、上光所，清华大学、浙江大学、哈工大等均参与光刻机的研发。
上海微电子，已成功研制出了DUV（深紫外）光刻机。可用于量产28纳米中低端芯片，标志着中国在半导体制造领域取得了一项重要的突破。
来源于：官网
中芯国际，已能够利用其现有的ASML浸没式光刻机生产出7纳米的芯片。
虽然当前国内与国外顶尖光刻机制程仍存在较大差距，但人才是决定技术发展的关键，强如台积电、三星、苹果、华为，都是靠着到处挖技术人员，站上了行业前列的位置。中国与台湾的台积电、联电等芯片厂商保持密切联系，共享芯片的订单和技术，而台积电内部绝大多数都是德州仪器出来的人；三星靠着3倍薪资的待遇，挖走了许多同行的技术人员，打败了当年的闪存老大东芝；而华为专挖有能力创造技术专利的人，比如加大拿北电网络的主管童文等。
国产光刻机供应商如下：
光刻机国产化是中国半导体产业发展的重要方向之一。通过加大研发力度、人才培养和引进、合作与交流、产业协同和政策支持等方面的努力，加速中国光刻机技术的发展，提高自主创新能力和国际竞争力。
