半导体前道设备概念

1. 华海清科【抛光设备】国内CMP设备绝对龙头，12英寸CMP设备在国内市场份额超80%2. 盛美上海【清洗设备】全球清洗设备龙头，SAPS兆声波清洗技术全球领先，市场份额约18%3. 拓荆科技【薄膜沉积设备】国内薄膜沉积设备龙头，PECVD设备国内市占率12.23%，ALD设备装机量和工艺覆盖率国产第一4. 芯源微【涂胶显影设备】芯源微的涂胶显影设备用于半导体前道制造中的光刻工艺，是光刻机的重要配套设备5. 中微公司【刻蚀设备】全球刻蚀设备龙头，5nm刻蚀机已进入台积电、三星供应链6. 至纯科技【清洗设备】国内清洗设备领军者，12英寸单片湿法设备覆盖28nm制程7. 微导纳米【薄膜沉积设备】国内半导体薄膜沉积设备领域的核心企业，聚焦原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）技术，产品覆盖逻辑芯片、存储芯片、先进封装、化合物半导体等关键领域8. 先导基电【离子注入机】通过子公司凯世通布局离子注入机，低能大束流设备（10keV‑1.2MeV）已进入中芯国际、华虹宏力验证阶段，2025年获首台订单。其高能离子注入机（3MeV‑10MeV）研发进入尾声，技术对标Axcelis9. 北方华创【刻蚀设备】国内刻蚀设备领军者，CCP刻蚀机支持7nm以下制程，工艺覆盖超300道，在逻辑芯片和存储芯片领域市占率约15%10. 京仪装备【温控设备】温控设备国内唯一规模化供应商，适配90nm‑14nm逻辑芯片及64层‑192层3D NAND存储芯片制造，技术壁垒高，市场份额稳定11. 中科飞测【量测设备】半导体量测检测设备领军者，专注于缺陷检测、薄膜厚度量测等，产品覆盖逻辑、存储芯片制造，技术实力国内领先，国产替代重要参与者12. 屹唐股份【热处理设备】国内热处理设备龙头，氧化扩散设备国内市占率约20%13. 中科信息【离子注入机】中束流离子注入机用于半导体前道制造中的离子注入工艺本内容来源公开资料，仅供参考，不构成任何投资建议