6月5日，国产半导体传来重磅捷报！璞璘科技自研的PL-AS真空气压式纳米压印光刻设备，成功实现8英寸光芯片晶圆规模化量产。这一突破彻底绕开传统DUV光刻路线，将芯片制造成本直接压缩至传统方案的十分之一。这不是简单的技术迭代，而是真正的“换道超车”！我们用物理压印替代光学曝光，不仅实现了量产，更在成本上对荷兰阿斯麦形成了“降维打击”。面对这十分之一的价格，荷兰人恐怕只能欲哭无泪。曾几何时，他们仗着技术垄断，肆意侵占闻泰科技在荷兰安世半导体的资产，甚至妄图派军舰施压。如今，中国光刻机的全面突破，正是对这种霸权最响亮的耳光。那些嚣张气焰终将一去不复返，任何封锁与掠夺在硬核科技面前都是徒劳。属于中国半导体的时代已经到来，那些企图卡我们脖子的日子，彻底结束了！