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【马斯克瞄准EUV光源:FEL技术受青睐 芯片成本或迎变革】什么是 FEL?FE

【马斯克瞄准EUV光源:FEL技术受青睐 芯片成本或迎变革】什么是 FEL?FEL = Free Electron Laser,自由电子激光,是下一代 EUV 极紫外光刻备选光源路线。1)ASML 当前量产 EUV(LPP 方案,锡滴方案)原理大功率激光反复轰击熔融锡液滴,产生等离子体辐射 13.5nm 极紫外光。痛点非常突出:能量效率极低,输入 4MW 电力,仅产出千瓦级 EUV 光;持续产生锡碎屑污染反射镜,镜面频繁更换,维护成本极高;光源功率上限很难提升,制约晶圆生产吞吐量;整套设备天价(超 2 亿美元 / 台),全球独家垄断。2)FEL 自由电子激光原理(马斯克瞄准的路线)电子枪发射电子 → 超导加速器把电子加速至接近光速 → 高速电子穿过周期性磁场(波荡器),电子震荡自发辐射出极紫外光线。不需要锡靶、不需要等离子体,纯依靠高能电子束产生 EUV。