他发明的技术，全世界都在用，人却从未来过大陆。

这事儿挺奇怪，但又好像挺正常。

林本坚在IBM工作至1992年，后来加入台积电并主导研发了浸润式光刻技术，而彼时中芯国际仍在攻克90纳米工艺，良率处于爬坡阶段，双方的技术路线与产业化节奏存在明显差异。技术不是发个邮件就能抄作业，得整条产线一起调，水要超纯，镜头要对得准，连光阻都得配套，缺一环都白搭。

他的著作被清华大学、复旦大学等高校作为参考教材使用；SMEE研发28纳米光刻机时，相关参数可参照他所撰写的光刻理论公式进行计算；中芯国际、长鑫存储的不少技术人员，其知识体系与研发思路均受到林本坚光刻理论的深刻影响。

2025年11月，林本坚在接受采访时表示，“DUV配合多重曝光和新材料，也能实现接近5纳米的效果”。他没有签过大陆合同，没有站过台，连微博都没有开过，但大陆工程师的笔记本里，全是他的推导过程。

那滴水，纯到电阻率18.2兆欧·厘米，哪国产的？它不写名字，只管把光折对。