近日复旦大学政治系沈逸教授在访谈中这样评价国产光刻机：

这个大体上差不多是浸润式的前一代，是干式技术。这个你要是去跟ASML去比，毫无疑问，差不多就是人家10年、20年前的设备水平，这没有什么好避讳的。但问题是这东西是我们花了多长时间，采用了非美工艺和产业生态搞出来的，这就很牛了。

那么事实真的如此吗？

光刻机我们都知道是芯片制造的核心设备，‌ 在芯片制造的所有设备中，光刻机的成本占比达到了24%，其次是刻蚀机的占比约为20%，两种设备合计占比为44%‌。

光刻工艺是芯片制造环节中最复杂、精确度要求最高的工艺，它不仅仅用于曝光光刻胶并图案化，还在先进工艺中需要进行多重曝光，进一步提升了其在芯片制造中的重要性‌。

因此一款精密的、稳定的光刻机尤为重要。

而从统计数据上看，目前全球的光刻机基本都被ASML垄断，还有一小部分被日本尼康、佳能掌控，国产光刻机的市场份额基本为零。

2023年全球光刻机市场份额方面，ASML超过80%，尖端的EUV光刻机达到了100%，中端DUV光刻机市场占有率超过90%。

但凡你要制造28nm以下的芯片，基本都会选择ASML的光刻机，无论是台积电、三星、英特尔这些巨头，还是国内的中芯国际、长江存储、长鑫存储均是如此。

而随着中国芯片的快速发展，美国感到了压力，开始在芯片领域对我们实施围堵，于是一场轰轰烈烈的国产替代开始了。

从芯片设计到芯片制造，再到EDA、最后到了光刻机。

2024年9月9日工信部印发了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》通知，文件中赫然列出了国产光刻机的最新进展。

目录中的“集成电路生产装备”板块列出了氟化氪（KrF）和氟化氩（ArF）光刻机。

这两种光刻机就是深紫外（DUV）光刻机。其中，氟化氩光刻机的核心技术指标为：光源193nm，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。

很多网友看到套刻≤8nm时，就认为国产光刻机可以制造8nm芯片了，实际上并非如此。

193nm光源，就是深紫外光，这是光刻机的一个技术分水岭，这项技术诞生于上世纪90年代，距今30年。

分辨率65nm，这与ASML的DUV光刻机34nm分辨率还是有一定差距的。

2007年，ASML推出了第一台浸润式DUV光刻机，把分辨率从65nm干到了36.5nm，之后又更新迭代至了34nm，这个差距还真是20年左右。

套刻≤8nm，这个就有意思了。

套刻说白了就是多重曝光，在不改变光源波长的情况下提高分辨率水平，进而制造出更先进的芯片。

台积电就曾使用该技术，利用浸入式DUV光刻机（1980Di型）为华为制造出了麒麟990芯片，这款芯片是7nm工艺。

那么是不是这也意味着，我们使用国产光刻机，在多重曝光后，也可以制造出麒麟990芯片呢？理论上是这样的，但实际上因为良品率过低，导致成本过高，根本无法商用。

也就是说套刻≤8nm在公开数据来看，只是技术参数，并非量产数据。

而只从193nm光源、65nm分辨率看，工信部9月份宣布的就是一款干式光刻机，能够量产65nm芯片，相当于ASML 20年前的水平。

复旦大学政治系沈逸教授说的话，也是合理的。

但是，按照中国的惯例，一旦公开某项技术，这说明这项技术不是最先进的。

我们总是公布一代、测试一代、研发一代、规划一代。我们敢于公布65nm干式光刻机，也就说明28nm光刻机已经在测试，甚至测试结束了，EUV光刻机也在研发中，并且攻克了部分关键技术。

High NA EUV光刻机，也就是高数值孔径EUV光刻机，用于制造2nm以下芯片，也已经规划了。

不要看ASML跑的远，但是论跑得快，中国说第二，没人敢说第一。

就拿我们最不擅长的人均GDP来说，美国从5000美元增长至1万美元用了9年（1969-1978），最近火上天的以色列也用了9年。

德国用了6年，日本、法国用了5年，英国用了2年。

但是这几个国家总人口不足中国的一半（美国3.3亿人口、德国8300万人口、日本1.26亿、法国6700万、英国6700万，合计6.73亿）

而我国用了8年时间，近14亿人口跨过这一关，已经是相当的快了，换成任何一个国家都做不到这个成绩。

而在其他方面，中国发展速度更是超乎你的想象！

一分钟，36家公司注册、55辆汽车下线、超1000人搭载飞机、电影票房超10万元；

一小时，建造500米高铁、处理600万件快递、生产1.5亿斤粮食、贸易额超5亿美元、GDP超百亿元；

70年，GDP增长170倍、工业产值增长970倍。人均寿命增加42岁，7亿人摆脱贫困。

那么，现在中国已经实现65nm光刻机的商用了，要用多长时间实现28nm光刻机商用呢？又用多久制造出EUV光刻机呢？3年？还是5年？还是10年？

在中国速度的加持下，国产光刻机的研发速度要比ASML快很多，也许就在明天工信部就会官宣28nm光刻机，落后ASML20年的历史就改写了。

除了速度以外，国产光刻机的自主性是ASML无法达到的。

因为打压限制，国产光刻机的自主性几乎就是100%，这是毫无疑问的。

而ASML不同，虽然其垄断了EUV光刻机，但是它也是只是一个组装大厂，只掌握了10%的核心技术。

剩余的90%技术来自美国、德国、法国、日本、以及中国台湾等，光是海外供应商就达到了近4000家，其中还包括大陆的部分厂家。

你比如说德国蔡司的镜头、德国通快的激光器、法国的精密轴承，这些东西荷兰可能一辈子都搞不出来，所以只要海外一断供，ASML也要歇菜。

而中国的光刻机，是全球唯一一家，凭借自己的硬实力打造出来的，这一点恐怕美国也做不到。

总的来说，国产光刻机落后ASML 20年，这是仅凭工信部公开的数据来看的，那没有公开的数据到底有多强，我们都不知道。

而且，中国的光刻机是凭一己之力搞出来的，而ASML则是集合了全球的零部件，这也是ASML无法决定卖给谁什么类型的光刻机的主要原因。

我是科技铭程，欢迎评论区留言，共同讨论！