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不黑不吹,目前中国内存芯片,与三星、美光相比,还落后1-2代

有一个很简单事实,那就是目前国产内存确实是崛起了。毕竟连苹果都想要采购中国的内存了,那证明中国内存,在品质上,在技术上都

有一个很简单事实,那就是目前国产内存确实是崛起了。

毕竟连苹果都想要采购中国的内存了,那证明中国内存,在品质上,在技术上都达到了苹果的要求,而苹果的要求是全球最严格的,一旦被苹果看中,意味着什么大家都懂的。

不过说实话,虽然国产内存确实是崛起了,但真要论技术,与三星、美光等顶级厂商相比,还是落后1-2代的。

目前的内存,主要是两种,一种是DDR内存,一种是HBM内存。

我们从这两种来仔细看一看,大家就懂了。

DDR内存是DDR1--DDR5,再到DDR6这样的,然后各代之间,还有一些移动版本,比如LPDDR5/LPDDR5X等。

目前从大版本来看,长鑫稳定是量产了DDR5、LPDDR5X等,似乎追上了三星们,毕竟三星们也只是稳定量产DDR5。

但事实上,三星们已经试产出了DDR6,这一点上,还是落后有一丢丢的。

当然,这都不是重要,重点是在制造工艺上,是落后1-2代的。

三星的工艺路径是1x→1y→1z→1a→1b→1c,目前进入了1c工艺,也就是11-12nm的水平,而美光、SK海力士与三星是差不多同进度的。

长鑫呢,因为没有EUV光刻机,是基于DUV光刻机的,再加上美国对先进设备的封测,较难进入14nm及以下的工艺。

所以目前的主要是G3(等效 1y/1z,17nm),目前实现了G4(等效 1z,16nm),但产能还在爬坡中,预计今年会量产G5(1a,15nm),也就是15nm,所以从1a到1c,中间隔了两代。

再看HBM这一块,这一种芯片,其实是一种堆叠式的DRMA,它通过3D堆栈工艺和硅通孔(TSV)技术垂直堆叠多个DRAM芯片,比DDR技术难度更高,更考虑工艺水平。

目前三星已经量产了HBM4,像美光、SK海力士们,也达到了HBM4的水平。

但是长鑫,因为只有G4,也就是16nm的工艺,所以目前还处于HBM2的水平,也是落后2代左右。

当然,目前有了韬定律,接下来也许能够利用 3D DRAM 架构突破,就算没有EUV,也能实现等效14nm或以下工艺,这样缩小与三星们的差距。

但实话实说,就目前来看,国产内存与三星们相比,在技术上还是落后1-2代的,还需要持续的努力才行,还有很大的提升空间,并不是真的全面追上了。