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精度决定未来,纯水铸就基石——“纯净动力”莱特莱德超纯水系统

精度决定未来,纯水铸就基石——莱特莱德超纯水系统,为半导体智造注入“纯净动力”在泛半导体产业迈向高精尖的赛道上,超纯水作
精度决定未来,纯水铸就基石——莱特莱德超纯水系统,为半导体智造注入“纯净动力”

在泛半导体产业迈向高精尖的赛道上,超纯水作为芯片制造、晶圆加工、封装测试等核心环节的“血液”,其水质纯度直接关联产品良率、设备寿命与技术突破。莱特莱德深耕超纯水领域多年,为晶圆、芯片、PCB 电路板、显示面板、光伏硅材料、湿电子化学品、制氢用纯水、实验室等行业提供需要的超纯水系统,至今持续稳定运行10年以上,助力企业实现高效生产与技术升级。

核心技术突破,定义超纯水系统“三高一低”新标准

泛半导体生产对超纯水的要求严苛至极,莱特莱德利用自身核心技术研发出电子半导体超纯水系统。

出水水质标准:B≤3ppt,SiO₂≤0.5ppb、TOC≤1ppb,DO≤1ppb,颗粒物(≥0.05μm)≤500pcs/ml

半导体超纯水工艺流程图(全膜法)

自主研发核心产品技术

ü定制级超纯水膜

ü曲线微导力系统

曲线微导力系统是一款在传统反渗透(RO)膜技术基础上进行革命性设计的深度膜处理系统,它通过创新的流道与压力场设计,实现了系统能耗显著降低与回收率大幅提升的突破。其核心价值在于,以更低的运行成本稳定产出极高品质的纯水与超纯水。这一特性使其在半导体、光伏等对水质、能耗及生产连续性有严苛要求的产业中成为关键解决方案:在半导体制造中,它为光刻、刻蚀、清洗等关键工序提供稳定可靠的高纯水保障,直接关系到芯片的良品率与性能。

üTOC-UV

ü多频离子改性吸附系统

超纯水行业专用膜

针对B、Si等离子交换难去除的离子及TOC提高了脱除率。

X-EDI系统——在EDI基础上增设延保防御系统

ü云服务系统:无论何时、何地随时轻松掌握系统运行状态。

ü运行模式:根据不同的工作环境及工作时间进行智能切换,最大程度减少了人工干预系统的运行。

ü健全的监控系统:通过完善的监控体系及安全的程序管控,保证系统能够全年安全稳定运行。

超高水质保障:集成自主研发的EDI模块与高效脱气系统,实现电阻率稳定≥18.2MΩ・cm,重金属、微生物等污染物近乎零残留,满足最严苛的工艺用水需求;

超高运行稳定:搭载PLC+触摸屏智能控制系统,实时监测水质、流量、压力等20+参数,支持远程监控与预自动报警;

超低能耗设计:采用节能型RO膜、变频供水泵与余热回收技术,相比传统系统能耗降低15%-25%;水资源回收率提升至75%-85%,大幅降低企业运营成本;

超全合规认证:系统通过ISO9001质量体系、ISO14001环境管理体系认证,核心部件符合CE、UL标准,满足半导体行业环保与安全合规要求。

赋能产业升级,与客户共筑半导体智造新生态

莱特莱德超纯水系统已广泛应用于国内主流半导体晶圆厂、EDA设计企业、封装测试基地,凭借“稳定可靠、节能高效、服务贴心”的口碑,成为泛半导体企业的优选合作伙伴:

提升生产良率:稳定的超高水质有效减少芯片缺陷率,助力客户良率明显提升;

降低综合成本:节能设计+长寿命耗材+智能运维,年均可为企业节省大量运营成本;

加速技术迭代:灵活适配先进工艺升级需求,支持未来产能扩张与工艺优化,为企业技术创新提供坚实保障;

全生命周期服务:提供从方案设计、设备安装、调试培训到终身运维的“一站式服务”,遍布全国的服务网点实现极速上门响应,让客户无后顾之忧。

以纯净之力,助中国“芯”崛起

在半导体产业高速发展的浪潮中,莱特莱德始终坚守“技术赋能产业,创新驱动发展”的理念,持续投入研发,推动超纯水技术与泛半导体工艺深度融合。我们不仅提供优质的水处理设备,更致力于成为企业可持续发展的战略伙伴,以纯净、高效、智能的超纯水解决方案,助力中国泛半导体产业突破技术瓶颈,迈向全球领先!

公司地址:上海市闵行区力波中心26号