信息量挺大，光刻机、上海微电子、华为！ 根据权威信息，上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。而此前华为的一项最新专利，在极紫外光刻机核心技术上取得突破性进展。看来吧，这场集举国之力进行的芯片决战，远比想象中要顺利，可以说是前方捷报频传，并且已经取得很可喜的阶段性成果，离最终彻底摆脱“卡脖子”的大决战也不远了，狠狠地打了某些院士、买办的脸。 最后小编大胆预测下，上海微电子做出的应该是28nm极紫外光刻机，然后利用多重曝光最终达到14nm，华为再利用自身的堆栈技术实现7纳米级别的手机芯片，彻底解决手机芯片受控的局面，大家认为呢？
风灯男人
可能是深紫外的呢。极紫外的咋可能是做28的
悟心
年底就几个月的时间
泡泡龙
大家千万不能高兴的太早，一切等官方媒体的报道。现在我们还是要沉下心来继续努力奋斗！[加油]
Javelin 回复 08-02 17:29
不然信你？[汗]
种花家兔子 回复 08-02 14:59
也不全是，有些消息官方一旦公布就已经是量产了，比如涡扇15。。
匹夫无罪怀璧其罪
新华网没有这篇文章，我去查了
风侠
华为官方说搞出来，基本肯定搞出来了。其他渠道的我不信
只弹不唱
真的话应买一打啤酒回来庆祝一下！
mxf168mxf 回复 08-01 21:17
不只买酒，我准备买挂千响的鞭炮响响[滑稽笑]
B845C
如果是真的话。那是值得庆贺的。万事开头难啊。先解决有与无的问题。先要有得用。后解决好和差的问题。不断改进。越往后越好…
蓝天
少说话，多干事！
石头
只要是人做的，不是神做的，中国人就能搞出来，只要下决心给时间给资源