网传正在测试的自主研发的极紫外光刻设备采用LDP(激光诱导放电等离子体)技术,不同于ASML采用的LPP(激光等离子体)技术。科普一下:LDP是一种无掩模光刻技术,直接通过聚焦的激光束在光刻胶上绘制图形,无需传统光刻中的掩模版。而LPP是极紫外光刻中的核心光源技术,通过高功率激光轰击金属锡(Sn)靶材,产生高温等离子体并辐射出。虽然LDP与LPP两种不同的技术概念各有优势,但总体来说,LPP更先进。
2025年3月9日国内科技头条速递。一、全球首条薄膜铌酸锂芯片生产线在武
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