真是杀人诛心啊!中微创始人尹志尧教授在2024年总结会上表示:他在美国研究了40年的刻蚀机,从来没想过能达到这么高的精准度! 作为中微半导体的掌舵人,尹志尧教授可不是在说大话,他在美国潜心研究刻蚀机40年,对这个领域的每一个进步都了如指掌。 如今,中微研发的最新款刻蚀机竟然能达到0.02纳米的精准度,这简直是一个突破性的飞跃! 要知道,刻蚀机可是芯片制造的“点睛之笔”,它就像是一把精密的手术刀,要在硅片上雕刻出极其微小的电路图案,精度越高,能制造的芯片就越先进,0.02纳米,这是什么概念?这相当于把一根头发丝分成五万份那么细! 尹志尧教授的感慨令人深思,在美国,他是顶尖的科研人才,为美国半导体行业做出了巨大贡献。 但是近年来,美国却频频打压华裔科学家,搞什么“中国行动计划”,让数千名华裔科研人员蒙受不白之冤,学术生涯受到严重打击。 讽刺的是,美国许多重大的技术突破,恰恰是由这些被他们怀疑、打压的中国留学生们完成的,就拿半导体行业来说,从设计到制造,从材料到设备,哪个领域没有华人科学家的贡献? 如今,中微半导体的突破,不仅证明了中国企业的创新能力,更是给那些对华裔科学家抱有偏见的人上了一课,科技创新不分国界,人才的价值也不应该被政治偏见所掩盖。 这个0.02纳米的精准度,不仅是一个技术指标,更是中国半导体行业自主创新的见证。
彭博社报道称,长江存储通过使用中微半导体设备公司的蚀刻设备、北方华创的沉积与蚀刻
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随性
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