产光刻机再传喜讯！
中芯国际的DUV光刻机实现了500小时连续运行无故障，这在业界颇为罕见。中芯国际操作界面友好，支持中文，维护人员上门响应极为迅速，这些都给国外垄断企业造成了不小的压力。 光刻机最为关键的指标当属稳定性，稳定性直接关乎生产效率与良率。良率提高能产出更多芯片，生产成本也会大幅降低。 上海微电子在光刻胶国产化的基础上，于芯片制造的重要尺寸（制程）方面也取得了突破，制程精度的提升能够促使性能提升并降低功耗。 中科院团队突破国外专利封锁，走出封闭实验室，推动了国产光刻机的发展。 深圳新凯的7nm原型机良率相当不错，而且成本低廉，还采用了国产替代的新材料与新技术，节省了资金支出，为企业发展助力良多，也提升了市场竞争力。 福晶、华卓、彤程新材等在材料方面同样成绩斐然，为完善国产光刻机产业链奠定了基础，助力新凯等企业打破国外材料和设备的垄断。
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