经常看到老美用光刻机卡我们的脖子，而荷兰光刻机受美国操控，不惜违约，拒绝向中国提供光刻机。 原以为我们光刻机技术落后，没有想到看了有关资料后，才知道我们的光刻机起步竟然比荷兰的光刻机巨头还要早。 我们在六十年代立项研发光刻机的时候，荷兰的光刻机巨头还没有诞生，比台湾和韩国早了差不多10年。 光刻机立项研发仅仅几年的时间，光刻机研发就取得了初步的成果。1965年，中国科学院研制出65型接触式光刻机。 到了70年代，中国科学院开始研制更加尖端的光刻机技术——计算机辅助光刻掩模工艺。 经过10年的研发，光刻机技术获得关键性突破，1980年清华大学研制成功第四代分，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平…… 遗憾的是，八十年代光刻机项目下马。 现在看来，假如八十年代光刻机项目没有下马，也许我们的光刻机技术位居世界前列。
经常看到老美用光刻机卡我们的脖子，而荷兰光刻机受美国操控，不惜违约，拒绝向中国提
长空飞过鹰
2025-04-12 20:50:33
0
阅读：60
