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重大突破,中国芯片终于初见曙光! 浙江大学立大功了!众所周知,要制造7nm以下

重大突破,中国芯片终于初见曙光!

浙江大学立大功了!众所周知,要制造7nm以下芯片必须用EUV光刻机,
而 EUV光刻机全球只有荷兰ASML一家能制造,但美国禁止向中国销售。

近日,浙江大学另辟蹊径,采用与 EUV 完全不同的技术,开发出电子束光刻机。

​目前,样机已进入调试阶段,虽然这种光刻机无法大规模生产芯片,

但投产后可制作量子芯片特种芯片。美国越封锁,我们越进步。

中国在亟待解决的芯片技术领域,终于取得突破,也再次证明了中国的崛起势不可当。



​网友就评论说:
​1,希望如此吧!看来我国的科技发展非常厉害了

​2,这就是打印机和影印机的关系,都是打印机原理不同。慢慢进化激光大型机出来了

​3,真可谓“山穷水尽疑无路,柳暗花明又一村”,为这些撑起名族脊梁的志士


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