我觉得中国芯片突围的关键，不是硬拼EUV光刻机的替代品，也不是盲目追求5nm量产线，而是用电子束在实验室里刻出0.6nm的精度时，那把叫“羲之”的刻刀已经捅破了研发的枷锁。
浙大这台电子束光刻机像个沉默的工匠，不用掩膜版，不赶量产速度，只在硅片上一条条调试电路。中科大、之江实验室过去买不到的设备，现在能亲手修改量子芯片的纳米级纹路。华为海思的工程师不用再等三个月换一次掩膜版，当天就能改设计。
杭州城西科创大走廊的实验室里，电子屏闪烁的实时参数背后，是教授带着研究生揭榜企业需求清单的成果转化链。当别人用光刻机定义芯片霸权时，中国用一支纳米笔在头发丝上雕出整座城市地图。
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瞌睡虫
浙大牛逼啊，看看啥时候能商用吧