SMEE极紫外光刻机也公开了，不在藏着掖着了。除了SMEE之外，近期已经公开露面的还有: 深圳稳顶聚芯发布首台高精度Stepper光刻机，聚焦90nm以上成熟制程，适用于功率器件、MEMS等泛半导体领域。 上海宇量昇研发的国产浸润式深紫外光刻机（DUV），多重曝光下可实现7nm制程。 杭州推出首台国产商业电子束光刻机，精度达 0.6nm，支持量子芯片研发。
SMEE极紫外光刻机也公开了，不在藏着掖着了。除了SMEE之外，近期已经公开露面的还有: 深圳稳顶聚芯发布首台高精度Stepper光刻机，聚焦90nm以上成熟制程，适用于功率器件、MEMS等泛半导体领域。 上海宇量昇研发的国产浸润式深紫外光刻机（DUV），多重曝光下可实现7nm制程。 杭州推出首台国产商业电子束光刻机，精度达 0.6nm，支持量子芯片研发。
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