“光刻机禁止出口”？这似乎成了中国科技奋起的催化剂！ 众所周知，EUV光刻机是芯片制造的“皇冠明珠”，但被美国封锁技术后，中国无法从ASML手中获得该设备。这一技术限制并未压垮中国，反而让中国半导体产业全面加速追赶。据悉，我国在光刻机相关领域的研发投入年增速超过20%，从材料研发到整机攻关，已从零星突破变成全链条协作。 中国科学家展现出了惊人的创造力，用多重曝光技术实现7nm芯片制造，成本仅为国外设备的约1/30。清华大学等机构正剑指突破更高难度的SSMB技术，探索6nm甚至更先进的生产工艺。 正如“两弹一星”“高铁梦”背后的故事，技术封锁挡不住中国前进的脚步。未来，谁能在光刻机领域真正引领新技术，或将写下科技竞争的全新篇章