中国芯片新突破？首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。首先给研发团队点赞！我国的之所以在芯片领域受制于美西方的封锁与制约，关键还是光刻机技术无法获得突破。但顽强的中国人是很有任性的，是不会服输的，突破光刻机技术只是时间问题。过去我们一直是想引进，其实别人东西肯定是念在别人的手里的，只有自己什么都能做才是最大的保证，才不会被人卡脖子，我们更应该相信我们自己的人民是一个聪明的，优秀的，能够生产出任何自己所需要的产品，向我们的研发团队点赞向，正因为有了你们中国的腰杆子才能硬起来。事实证明，脱钩断链、垄断技术都是枉费心机，搬石头砸自己的脚，困难的结论只是时间问题，祝愿伟大祖国繁荣昌盛国泰民安！