大利好！大利好来了！ 预计明日光刻胶概念要起飞了 一觉醒来，财联社又传来重大利好消息，在光刻胶领域，我国取得了重大新的突破，这项突破主要来自北京大学化学与分子工程学院彭海林教授团队，北京大学这个团队真的太厉害了，光刻胶的重大突破将会有两大利好，第一，对芯片的制造业技术带来显著的进步和提升，对我国芯片发展影响重大。第二，能推动我国半导体光刻胶的自主可控，打破国外对光刻胶技术的国际垄断，能加速我国产业链的构建，总之光刻胶领域的突破，为半导体芯片领域创新发展带来重大惊喜，对于光刻胶领域半导体芯片行业都是重大利好消息 光刻胶这玩意儿就像芯片制造的"血液"。没有它，再精密的设备都得停摆。去年全球光刻胶市场90%被日本JSR、信越化学垄断，咱们进口依存度高达85%。这种卡脖子的滋味，半导体行业早就受够了。 北大彭教授团队的突破来得正是时候。要知道28纳米制程用的KrF光刻胶，国内自给率不到10%。现在这项技术突破，等于给国产芯片开了条快速通道。中芯国际、华虹半导体这些晶圆厂，终于能松一口气。 资本市场已经闻到火药味。上周南大光电、晶瑞股份的融资金额暴增300%，机构调研频次创下季度新高。这股热潮不是空穴来风，国家大基金二期最近密集调研光刻胶企业，真金白银在背后撑腰。 但咱们也得冷静想想。实验室突破到量产还有段路要走，就像当年京东方突破液晶面板，整整熬了七年才实现盈利。光刻胶的纯度要求达到99.999%，每立方米颗粒不能超过5个，这种精度堪比在头发丝上刻字。 看看隔壁韩国三星的教训。去年光刻胶断供，导致平泽工厂停产三天，每天损失2亿美金。这个惨痛经历告诉我们，核心技术买不来求不来，必须攥在自己手里。 产业链上下游都在蠢蠢欲动。上海新阳的ArF光刻胶进入验证阶段，江化微的超纯试剂产能翻倍。这些企业就像拼图，正把国产半导体版图一块块补齐。 投资者现在最该关注的是技术转化能力。就像当年锂电池突破带动宁德时代崛起，真正能落地量产的企业，才会是这波红利的最大赢家。 别忘了全球半导体格局正在洗牌。ASML刚刚推出新一代EUV光刻机，台积电宣布2纳米工艺突破。咱们在追赶，别人也在狂奔。这场科技竞赛，慢一步可能就要落后十年。 这次突破最让人振奋的是人才梯队建设。北大团队平均年龄才35岁，这些年轻学者正在改写中国半导体历史。他们实验室那盏常明的灯，照见的或许是整个行业的未来。 各位读者你们怎么看？欢迎在评论区讨论。