兔八哥 128 2025-11-06 13:29 哎，中国光刻机都落后你们几十年了，真不知道你们天天慌个啥 用户17xxx66 回复 11-07 02:25 你去上海深圳街头看看就明白了 广汉人在外地 回复 11-07 07:11 一，我穿什么长衫了。二，我接你的话，中国落后五百年，不对了。三，中国这么落后，外国害怕什么？四，你是中国人吗？中国落后，你高兴什么？回答我
学致宏远 55 2025-11-06 19:25 不破不立就是现在是90纳米制程问题不是很大，就是多花点时间上面突破，高盛控股多加国内企业，全面窃取国内商业机密，要把高盛进行国家安全审查，我们一直提供市场与资金给美国发展，到现在芯片卡到65纳米说明应该断掉美国在国内市场份额，没有资金与养份，美国科技没落是非常快的 核桃与土豆 回复 11-07 01:14 但是他不会告诉你真正的行业情况， 中华神盾 回复 11-07 00:16 还用花钱调查？他都控股国内企业了
New 1omE 38 2025-11-06 16:28 前几天国内人拆人家光刻机，都装不回去，然后请人家 这事都被欧美国家笑出屎了 核桃与土豆 回复 11-07 01:15 这你也信……欧美故事会你也能信…… 用户15xxx86 回复 11-07 01:25 我作证，是我拆的，这不是尿急找不到马桶，就找个类似的用用嘛
大电 34 2025-11-06 15:40 诚实点，中国无光刻机 用户10xxx75 回复 11-06 17:42 我们都手雕的，用光费电啊[害羞] 该读书时别放猪 回复 11-06 20:40 那是！我们华为的芯片都是请非遗老师傅手工刻的~~
神经蛙 34 2025-11-06 14:10 马云说的对啊，我知道我是第一，但我从来不说自己是第一。欧美这么牛逼就永远当第一就好了，我们慢慢发展，搞个第二就行 向宇 回复 散步D鱼o0 11-06 21:46 你说气人不，气死你 散步D鱼o0 回复 11-06 17:49 马云对钱感不感兴趣不知道，但对银行户头的数字肯定感兴趣。
Rain 13 2025-11-06 17:12 我相信我们国家的科学家们一定会攻克诸多难关，打破敌人的封锁！ 王原原-- 回复 11-06 22:18 不可能的，因为和日本氢能源车一样，我们又在搞弯道超车了。。据说是我们光刻机的研究还在做，但不会花大力气，因为有中科院的提出来我们与其绕过技术壁垒研究光刻机，还不如直接搞大批量的光刻厂，产品生产之后进行拆分来的实在 红鲤鱼绿鲤鱼 回复 王原原-- 11-06 23:11 杨振宁提出来的清华SSMB-EUV方案。
WWIII 7 2025-11-06 18:55 ASML量产成熟的65纳米光刻机是2005年。研发成功13.5纳米光刻机样机是2010年，中间只隔了5年而已。而光刻机技术实际上已经停留在2010年，没有突破了，后面只有改进型号而已。也就是说就算中国只掌握65纳米，和西方也只有5年差距。因为他们没有突破，中国要追赶的只是2010年的先进技术，并不是2025年的先进技术。
小时光 6 2025-11-06 18:23 现状是，稳定量产90nm及以上成熟制程，基本上满足汽车、家电等消费级使用需求，并正在攻关28nm等先进制程，但在EUV等顶尖领域与国际最高水平仍有显著差距。 怼ZG 回复 11-06 19:49 这不懂王来了
jx01宿醉 6 2025-11-06 21:33 这么肥的肥肉，说什么也不能松口，据《日本经济新闻》报道，2025年4月至6月，全球11家主要半导体企业净利润合计达557亿美元，同比增长57%，连续三个季度刷新历史最高纪录。
小酌怡情 3 2025-11-06 16:48 高盛打胡乱说张嘴就来，也别说什么65纳米了，那还不够惊悚，一点也不令人印象深刻，直接说78公里，指数级震撼。 awpljm 回复 11-06 18:16 我们是30万km光刻机 不敢造啊 地球装不下啊
人间直走 2 2025-11-06 22:00 这帮货为啥非得逼着中国啥都整到世界顶级呢？下场啥样还没点数？盾构机啥价格了？非得大家都别挣钱才得劲？再说光刻机是几个国家合作弄出来的 就算出来装x 你能装出啥来？我们几个真厉害 跟对面一个对比？
用户19xxx22 1 2025-11-06 12:16 不需要跟最先进的对比。7就合适用了，很快就会实现， 三国靓仔 回复 11-06 13:03 7已经基本上能做到了，5能做好就够了 用户10xxx75 回复 11-06 17:43 不存在的，我们就70，不能再多了。
我就瞎起个名字 2025-11-07 00:25 基本属于灭鳖小作文，行内都清楚，65纳米光刻机就意味着可以用多重曝光来做28纳米芯片，28纳米光刻机就意味着可以多重曝光做14纳米芯片，极限可以做到7纳米，只是良率比较低，成本高，不经济，世界第一片7纳米也是28纳米的duv多重曝光做出来的，第一台euv光刻机可以单次曝光做7纳米，现在的5纳米2纳米芯片也是用euv多重曝光做的，多重曝光可以做得更精细，但是良品率会变低成本会变高，最终划不来，上海微电子的28纳米光刻机去年首台出货，意味着可以多重曝光做14纳米，大致上就是5年左右差距。华为去年的一个专利是如何用算法提高多重曝光的准确度，估计就是为了强行用duv做7纳米降低成本开发的。
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