中国国产EUV光刻机在深圳实验室秘密测试,已成功产生极紫外光,目标2030年前实现可用芯片量产,半导体自主进程超预期。
用户17xxx03 回复 12-22 16:07 不不,还是河南遥遥领先!
101 回复 12-19 13:14 消息是公开的,测试是秘密的。
如来神掌 回复 12-21 11:16 哈哈哈
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