1月9日据市场披露，中国台湾地区一家法院已下令羁押涉嫌窃取台积电商业秘密的相关员工。这是台积电2nm先进制程技术泄密案的关键后续进展，再次将半导体行业核心技术保密问题推向公众视野。 此次被羁押的涉事人员为台积电陈姓员工，其涉案线索源于此前已曝光的台积电2nm制程泄密案主犯的供认。据台媒此前报道，该泄密案最早于2025年8月爆发，原台积电员工陈力铭离职后入职日本半导体设备大厂东京电子（TEL），为提升机台表现、巩固业务订单，多次勾结台积电在职工程师吴秉骏、戈一平，通过远程登入系统、手机偷拍等方式，窃取台积电2nm制程相关机密资料，并上报给东京电子。案件初期，检方已对陈力铭等三人提起公诉，后又追加起诉东京电子及该公司卢姓主管，分别提出相应刑期及罚金诉求。 此次被羁押的陈姓员工，正是陈力铭在侦查阶段主动供出的共犯。陈姓员工向陈力铭提供了台积电核心关键技术——14nm以下制程的IC制造技术及相关设备、材料技术等商业秘密，这些资料还被发现存储于东京电子的云端硬盘中。2025年11月，检方已指挥调查部门对陈姓员工的住居所展开搜查，并向法院申请羁押禁见获批准。由于其被捕后态度不佳，未完全坦认犯行，检方已请求判处其有期徒刑8年8个月。 此次羁押事件发生在台湾地区强化核心技术保护的政策背景下。此前民进党当局通过“国安法”修正案，新增“核心关键技术经济间谍罪”等罪名，将14nm以下制程技术纳入核心关键技术清单，对窃取相关商业秘密的行为设定了最低5年、最高12年有期徒刑及高额罚金的严厉处罚，即便未遂也同罪论处。此次对陈姓员工的羁押及量刑诉求，正是这一政策导向的具体体现。 对台积电而言，连续曝光的泄密事件凸显了其内部保密体系面临的严峻挑战。就在此次2nm泄密案发酵期间，台积电前资深副总经理罗唯仁还因退休时携带大批先进制程机密资料跳槽英特尔，被台积电提起诉讼。核心技术是半导体企业的立身之本，尤其是2nm制程作为当前全球芯片制造的顶尖技术，其商业秘密的泄露可能直接缩短竞争对手的研发周期，冲击台积电的技术领先优势。目前台积电已通过内部监控机制及时发现违规行为，并采取开除涉事员工、移送司法等强硬措施，后续大概率将进一步升级终端管控、数据传输监控等保密手段。 此次事件再次印证了半导体产业商业秘密竞争的激烈程度。在全球半导体产能竞争白热化的背景下，核心技术的 slightest 泄露都可能改写市场格局，这也倒逼全行业加速构建全方位的数据防泄露体系，在人才流动管理、供应商合作监管等环节筑牢安全防线。对于台积电而言，如何在保障技术研发效率的同时，堵住内部泄密漏洞，将成为其维护行业地位的关键课题。