荷兰光刻机巨头ASML表示，现在在美国的技术封锁下，中企想获取EUV光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过20%。

2026年3月，有人在盯着一块屏幕发呆。

屏幕上是ASML的股价走势，单月跌幅超过5%，这家荷兰公司曾经是全球芯片产业链里最不愁卖的角色，没有之一。

然后今年1月，掌舵人福凯特把话撂在了桌面上——EUV光刻机出口中国，基本没戏了。

不是暂时受阻，不是仍在评估，是没戏。

这句话听起来像是中国输了，但如果你追着数字看下去，会发现故事走向完全不是那么回事。

先回头梳理一下这条绞索是怎么一圈圈收紧的。

2019年，荷兰政府拒绝签发出口许可，EUV机型第一次被锁在了门外。到2024年，连相对普通的机型也进入了动态审查名单，再到2025年，美国拉着盟友把整个技术供应链的铁笼彻底合拢。

华盛顿给ASML的筹码不是商量，是威胁——要么配合，要么连核心零部件的供应都得重新谈。

这种局面下，ASML的处境说出来都难听，中国曾经贡献了这家公司将近一半的营收，那是真金白银的大票仓。现在占比已经萎缩到三成左右，明年甚至面临八成断崖式跌落的预警。

发财树被人亲手锯断了，搁谁都得心里抽痛。

但中国这边的反应，出乎了几乎所有人的预判。

没有陷入恐慌，也没有停在谈判桌上等答案。2025年起，国产半导体研发投入突破680亿，央企研发资金池整体守住了1.1万亿的关口，这已经是连续第四年稳在万亿级别。

更关键的是增速——专项针对光刻机研发的资金，年增速超过了20%。

这不是防守，这是饱和攻击。

大基金三期一口气调动了3400多亿，定向砸进材料与设备的上游基础，上海临港等地的企业拿到了15%所得税减免加专项补贴的组合拳，目标只有一个：把从原型到量产的时间差硬生生压缩掉。

钱落在了哪里，才是真正值得追的线索。

哈尔滨工业大学的团队，从一片空白里敲开了13.5纳米远紫外光源的大门，功率目前在几十到百瓦区间，离商业化要求的几百瓦还有距离，但那段距离的起点是零——什么都没有。

然后是羲之。这套光刻系统把物理精度对齐到了0.6纳米，这个数字打出去，那些曾经在技术参数上居高临下的洋品牌，大概得重新掂量措辞了。

不止这些，国产28纳米产线设备已经跑在了真实的量产线上，不是实验室里的原型，是正儿八经在出货、在赚钱的机器。

光学组件方向，国望、茂莱的技术指标在快速逼近国际梯队，精密材料端，南大光电、福晶科技已经把部分产品做进了世界水准的行列。

这不是单点突破，这是全线推进。

有意思的地方在这里。

当国产设备开始批量交付，不仅性能差距在收窄，价格上还能省出数千万的空间——因为没有高额的技术授权费，没有跨洲的物流成本，没有被卡住脖子时的溢价谈判。

这种竞争力是静悄悄渗进去的，等老牌巨头缓过劲来，市场已经被咬走了一大块。

与此同时，中国悄悄动了另一张牌。

对稀土出口的精细化管理开始升级，这个动作不需要太多解释——欧美的高端制造设备，有多少离得开中国的原料供应，懂行的人心里都有数。

攻防的天平，开始出现了另一个维度的偏转。

回过头看福凯特在1月说的那句话，EUV出口中国没戏了。

这话说的是ASML的困境，却也在某种程度上把中国这几年的成果间接给点名了。

正因为逼出了一套不需要向外呼吸的研发体系，正因为从光源到镜组、从材料到算法都在一个个攻下来，封堵才从一道关卡，慢慢变成了一面越来越薄的墙。

光刻机有十万多个零部件，这场仗从来不是一夜间能打完的。

但方向已经很清楚了。

信源：中国日报网 2026-01-15 16：42 ASML：美国封锁下中企获取EUV光刻机几乎不可能