美荷两国同时发声，对中国独立研发的光刻机技术给予了强烈批评。

美荷几乎在同一时间把话筒对准中国光刻机，这事绝不是几句外交辞令那么简单。

一个掌握设备整机门槛，一个捏着软件、零部件和规则的阀门，忽然一起发声，说明他们听见的已经不是实验室里的回音，而是产业链深处传来的脚步声。

要知道，光刻机就是制造芯片的“核心机床”，没有好的光刻机，就造不出先进的芯片，而我们日常用的手机、电脑、汽车，甚至是航天、军工领域的设备，都离不开芯片。

长期以来，全球的光刻机市场几乎被美荷两国牢牢垄断着，荷兰的ASML是全球唯一能造出高端EUV光刻机的企业，而美国则掌握着光刻机核心的光源、控制系统等关键技术，两家一唱一和，几乎垄断了全球高端芯片制造的“命脉”。

以前，我们中国的芯片产业发展慢，只能靠着进口光刻机过日子，人家说涨价就涨价，说限制出口就限制出口，我们连反驳的余地都没有，哪怕愿意花大价钱，想要买一台最先进的EUV光刻机，美荷也会以“国家安全”为借口，直接拒绝我们，就是怕我们拿到技术后，打破他们的垄断。

后来，我们也彻底醒过神来，知道靠买是永远买不来核心技术的，就下定决心自主研发光刻机，哪怕起点低、难度大，也没有退缩，这就像当初我们研发航空发动机一样，明知前路艰难，也得硬着头皮上。

这些年，我们的科研工作者没日没夜地攻关，从最基础的90纳米光刻机开始，一点点摸索、一点点突破，克服了技术空白、设备短缺、人才匮乏等一系列难题，甚至在西方企业处处设防、严禁核心技术外流的情况下，硬生生走出了一条自主创新的路子。

直到最近这两年，我们的努力终于有了回报，上海微电子研发的28nm DUV光刻机已经实现量产，良率稳定在95%以上，不仅能满足中低端芯片的生产需求，通过多重曝光技术，还能支持制造等效7nm制程的芯片，这已经是天大的进步了。

可就是这一点点进步，让美荷两国彻底坐不住了，他们之前一直靠着垄断光刻机技术，赚得盆满钵满，还能随便卡我们的脖子，现在我们自己能造光刻机了，他们的垄断地位受到了威胁，这才急着跳出来联合批评我们。

他们嘴上说我们“破坏规则”“搞技术封闭”，可实际上，真正破坏规则的是他们自己，他们靠着技术垄断，随意抬高光刻机价格，压榨其他国家的利益，还动辄以“国家安全”为由，限制技术出口，这才是真正的不公平、不公正。

这里面，美国其实是背后的主导者，荷兰虽然有ASML这样的巨头，但ASML的很多核心技术，比如EUV光刻机的光源，都得依赖美国的Cymer公司，而且美国还是ASML的重要市场，荷兰根本不敢得罪美国，只能跟着美国一起发声，哪怕这么做会让ASML失去中国这个大市场，损失巨额利润。

其实荷兰心里也有苦说不出，ASML的财报显示，中国市场在其全球营收中的占比近3成，是他们最大的单一市场，可在美国的施压下，荷兰不得不收紧对华出口限制，取消了不少光刻机订单，导致ASML的利润大幅下滑，甚至面临生产线停转的风险。

ASML的CEO也曾无奈地说过，“施加的限制越多，反而把别人逼得越发自力更生”，这句话其实道破了真相，他们越是封锁、越是批评，我们就越要努力，越要突破，而他们自己，却因为失去中国市场，陷入了前所未有的困境。

美荷两国的批评，不仅仅是嘴上的指责，更是实打实的封锁，他们不仅禁止向中国出口先进的EUV光刻机，还封锁了核心零部件和维修服务，甚至连之前可以正常出口的DUV光刻机，也被列入了限制名单，试图从源头切断我们的研发和生产之路。

他们以为，这样就能让我们放弃自主研发，乖乖回到依赖他们的老路上去，可他们低估了中国科研工作者的韧性和决心，也低估了我们自主创新的能力。

现在，我们不仅在28nm光刻机上实现了突破，在更先进的EUV光源技术上也有了重大进展，中科院上海光机所研发的固体激光驱动EUV光源，不仅绕开了美国的专利壁垒，还在一些关键指标上实现了超越，一步步构建起了属于我们自己的技术体系。

而美荷两国的联合发声，本质上就是一场霸权主义的狂欢，是他们为了维护自身的既得利益，对中国科技发展的遏制和打压，他们以为自己是规则的制定者，就能永远掌控技术的话语权，可他们忘了，科技的进步从来不会被封锁所阻挡，创新的力量也从来不会被批评所磨灭。

如今，我们的光刻机技术还在不断进步，国产光刻机已经进入中芯国际、长江存储等头部晶圆厂的产线，逐步填补了进口设备断供留下的空白，而ASML却因为失去中国市场，利润持续下滑，曾经的傲慢也慢慢变成了无奈。