AI赋能打破光刻胶“黑箱”笼断，上海人工智能实验室重大突破
从2024年开始，日本就收紧对中国光刻胶的供应。 2025年10月后，日本政府虽未全面“禁止出口光刻胶”，日本经济产业省已对中国110家半导体企业列入限制名单，审批时间由7至10天延长至30天。象征日本政府已已光刻胶的隐性管制落地。
日本的佳能、尼康、三菱化学、信越化学等日本企业巨头，已提前收紧对中国光刻胶销售渠道，高端光刻胶（EUV和ArF）实际停摆或交货周期大幅拉长（由原来的2一3月延长至4一6月），光刻胶成中国芯片制造的“卡脖子”原料，光刻胶已成日本政府迟滞中国半导体企业发展的“利器”。
5月12日，上海人工智能实验室的一篇新闻稿传来消息，中国光刻胶取得了一项具有里程碑意义的重大突破，联合团队攻克了KrF光刻胶稳定制备难题！芯片制造的最隐秘的角落被照亮了！
中国自主生产的高端光刻胶从实验室到量产不会很长，日本想用光刻胶“卡”住中国芯片制造的算盘要落空了！