每日一善 半导体设备,重点关注的6大方向最新行业动态热点一文全解析梳理。主要逻辑:a股今日股市财经 SEMI报告显示,2026年第一季度全球半导体设备出货金额同比增长14%,达到365.5亿美元,环比增长1%,创下单季历史新高。华创证卷跟踪研究,6月前十天韩国半导体出口同比上升205.8%,从中国的进口同比上升57.4%,进一步印证当前半导体上行周期处于加速阶段。而在此前,SK海力士多家设备供应商提出涨价要求,业内人士指出,连设备厂也提出涨价要求的情况“极为罕见”。在此背景下,半导体设备迎来新一轮景气周期,相关设备厂商在手订单已排至2027年。根据业务关联与发展现状,筛选出重点关注的六大细分方向。方向一:光刻机核心逻辑:光刻工艺占据芯片制造近四分之一设备价值,是技术壁垒最高的环节,全球市场由ASML、Canon、Nikon等主导,国产率不足1%;目前我国在深紫外(DUV)已实现部分突破,而极紫外(EUV)仅ASML量产,国产替代空间极为广阔。产业链公司:上海微电子、张江高科、炬光科技、茂莱光学、波长光电、芯碁微装、蓝英装备、奥普光电等。方向二:刻蚀设备核心逻辑:光刻负责 “曝光画图”,刻蚀负责 “把图形真实刻在硅片上”,无刻蚀则无法完成芯片微观结构成型;SEMI数据显示,芯片制程从65nm演进至7nm,刻蚀步骤数量激增超300%,而3D NAND层数从32层到128层,刻蚀设备用量占比从35%升至48%,刻蚀价值不断凸显。产业链公司:中微公司、北方华创、屹唐股份、盛美上海、富创精密、汉钟精机、先导基电、矩子科技等。方向三:薄膜沉积设备核心逻辑:薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀设备并列半导体制造的三大核心设备,其负责沉积导体、绝缘体等膜层,构建芯片基础结构;SEMI数据显示,薄膜沉积设备占半导体设备市场约20%,随着芯片结构从2D向3D演进,对干法刻蚀设备需求激增。产业链公司:北方华创、中微公司、拓荆科技、微导纳米、盛美上海、芯源微等。方向四:CMP设备核心逻辑:CMP(化学机械抛光)通过化学腐蚀与机械研磨实现晶圆全局平坦化,贯穿芯片制造与封装全流程;受AI芯片、HBM高端需求爆发及晶圆厂扩产驱动,SEMI预测2026年全球CMP设备市场规模将突破150亿美元,2025至2030年复合增长率超17%。产业链公司:华海清科、中微公司、晶亦精微、安集科技、鼎龙股份、江丰电子、上海新阳等。方向五: 量/检测设备核心逻辑:量检测设备贯穿晶圆制造全流程,用于检测缺陷、测量膜厚与关键尺寸,直接决定晶圆良率,目前仍由国外企业主导,国产替代空间大;相关行业报告显示,2025年全球量/检测设备市场规模约130亿美元,预计2025至2030年复合增速5.4%。产业链公司:精测电子、中科飞测、赛腾股份、天准科技、长川科技、华峰测控、联讯仪器、华兴源创等。方向六:PLP、TGV等先进封装设备核心逻辑:PLP(面板级封装)与TGV(玻璃通孔)是新一代先进封装设备,随着AI芯片尺寸持续增大、设计日趋复杂,半导体封装正迎来“以方代圆”变革,PLP设备应运而生;同时,国内外企业加速布局玻璃基板,也将同步带动TGV设备需求提升。产业链公司:华海清科、北方华创、盛美上海、京东方A、沃格光电、大族激光、帝尔激光、德龙激光、海目星等。观看声明:不作为投资建议,股市有风险,入市需谨慎。

