没想到中国光刻胶研发的“大佬”级别的人物竟然是她。

这位叫艾尔莎·瑞秋曼尼斯的女士，是拉脱维亚裔的美籍化学家，1953年生的，拿过雪城大学的有机化学博士，头顶三个院士头衔——美国工程院、美国发明家科学院、美国艺术与科学院，之前还当过美国化学会的主席，在美国学术圈那是很有分量的人物。

她最厉害的研究方向是半导体材料，公认是半导体光刻胶的发明人，最早设计出能工业用的深紫外光刻胶，现在造芯片用到的超大规模集成电路光刻技术，基础就是她打的。她还搞出过第一个柔性半导体晶体管，这些成果现在做电子设备哪样都用得上。

这些年她一直在搞中美科技交流，现在是东华大学两个国际学术岗位的外方负责人，还带着团队和东华合作研发新材料，2026年刚拿了咱中华人民共和国国际科学技术合作奖，这奖是专门颁给给中国科技发展帮过忙的外国友人的最高荣誉。

有网友说，得向这些帮过中国科技的外国科学家和她们家人致敬，还有人担心这么公开说，美国政府会不会找她麻烦，说这么好的国际友人可得好好保护。也有人感慨，咱们要的就是这种真有本事的全球好专家，可不是那些来混文凭的留学生。

人家愿意把本事拿出来和我们共享，这份心意难得，该接住就得接住。