中国15年内会造出EUV光刻机 ASML EUV光刻机光学元件独家供应商德国蔡司集团半导体事业负责人Frank Rohmund接受采访时表示，推测中国开发出EUV光刻机大约还需要15年，中国在该领域的实际进展难以量化。他指出，美国目前已禁止ASML向中国出口EUV设备和部分先进浸润式DUV光刻机，若后续进一步将出口管制扩展至所有DUV设备，将对产业造成不利影响，相关管制不会带来正面效果，反而会加速中国的创新。他同时确认中国在浸润式DUV光刻机领域已取得进展，蔡司目前在相关领域仍保持领先。