荷兰公司要是看到这条消息，估计肺都要气炸了！10月14日工博会，朗道燧岩展台前围了一堆人，一台EUV光源系统样机摆在展台上。工作人员说国产化率90%，可用于7纳米以下制程曝光测试。
 
现场媒体标题写的是“国产EUV光源首秀”。但如果你仔细看那台样机的参数表，EUV能量大于15W。ASML商用EUV光源目前是250W级别，正在向1000W演进。从15瓦到250瓦，中间隔着十六倍的功率差距。
 
一台EUV光刻机，光源只占附加值的20%。光学系统占30%，是价值最高的单一模块。EUV光刻机不能用透镜，因为极紫外光会被所有材料吸收，只能用反射镜。
 
一台High-NA EUV光刻机的光学系统包含超过4万个投影光学元件，总重量约12吨。这些反射镜全部由德国蔡司供应，蔡司是ASML EUV光刻机光学系统的唯一供应商。
 
唯一供应商的意思就是没有备选。全球能造EUV反射镜的公司，只有蔡司一家。
 
蔡司的反射镜是什么精度。镜片以原子级精密度制造，由超过一百层镀膜构成。蔡司自己说过一句话：如果其中一面反射镜将激光光束反射至月球，它的精准度足以击中月球表面的一颗乒乓球。
 
反射镜的面形精度峰谷值小于1纳米，表面粗糙度控制在0.1纳米以下，相当于北京到上海的铁轨起伏不超过一毫米。任何原子级的凹凸都会导致光线散射，影响成像分辨率。
 
制造周期同样不是同一个量级。High-NA EUV的单块镜片制造时间约需一年。验证光学系统的真空舱尺寸5米乘10米，由超过10万个零件组成，重达150吨以上。蔡司在奥伯科亨花了四年才建好新增的25000平方米生产空间。蔡司与ASML的技术蓝图已经规划到2040年。
 
这就意味着，即便朗道燧岩把光源功率从15W提到250W，即便国产光源做到了和ASML同一个等级，光刻机里那几十面反射镜，仍然要问蔡司买。蔡司不卖，整个光学系统就装不起来。
 
国内在EUV反射镜领域不是没有动作。中科院长春光机所，在极紫外宽带多层膜反射镜的，膜系设计和制备上做了多年研究。
 
同济大学王占山团队在EUV多层膜反射镜抗辐照损伤方面发了《Nano Letters》，哈工大建成了国内唯一短波光学元件洁净产线，波长光电的高面型精度反射镜已经应用于接近式掩膜光刻等场景。茂莱光学的28nm DUV物镜国产替代率做到了60%，单台价值5000万。
 
但这些成果加在一起，距离EUV反射镜的工程化量产，还隔着一条很长的路。 DUV物镜的替代率是60%，EUV反射镜的替代率，公开信息里找不到任何一家国内企业宣称已进入ASML级别的量产验证。
 
长春光机所和同济大学做的是原理验证和材料层面的研究，从实验室的反射镜样品到装进一台光刻机里每天跑几千片晶圆、连续工作几年不出问题，中间的距离不是发几篇论文能填上的。
 
公众看到“国产EUV光源突破”会觉得中国离光刻机自主很近了。但光源只是光刻机十万个零件里的一个模块。
 
反射镜、双工作台、精密运动控制、光源收集镜、照明系统，每一个模块都是一道关。光源关过了，反射镜关没过。反射镜关过了，双工作台关还在那里。
 
2025年大基金三期投了930亿到设备材料领域，上海微电子估值冲到6000亿，政策在加码，资本在进场。但一台光刻机不是靠钱堆出来的，是靠一个一个精密零件磨出来的。
 
蔡司造一面反射镜要一年，这面镜子的制造工艺不是花钱能买到的，是蔡司积累了一百八十年光学技术的家底。
 
当所有人都盯着光源的国产化率90%的时候，那几十面还没有任何一家中国企业能造出来的反射镜，到底有多少人真正在意？