国产光刻机模型亮相进博会，它能造什么芯片

上海微电子在进博会展出新一代干式光刻机模型，先说个容易误会的点：展台放模型，不代表没有真机。

光刻机体量大、零件多，曝光还得在洁净环境里长期连续跑产线，整机搬到展会现场不现实。ASML、尼康参展也常是PPT、视频或缩比展示，拿“只是模型”否定进展，有点外行看热闹。

官方信息显示，这次对应I-line和KrF两条成熟路线，光学照明、双工件台、掩模台、自动传输和高精度对准等关键模块做到自主配套。更关键的是，它不是原型机，而是多台已进产线、长期稳定运行，累计流片过千万片。I-line波长365纳米，KrF是248纳米；手机电脑逻辑芯片主力用193纳米ArF。所以它的意义不是冲最先进制程，而是把成熟芯片制造的基础盘做稳。

跟ASML比要分赛道。ASML强在整机集成、软件体系和高精度对准，擅长组织全球供应链并负责调试维护；尼康、佳能更强调镜头、曝光系统等核心部件自研。国产在I-line、KrF这类成熟干式设备上追了上来，下一步才是193纳米干式DUV、浸润式DUV乃至EUV。