导读：日本落井下石，国产光刻胶，到底与日本还有多大差距？

光刻胶作为光刻环节的关键耗材，与光刻机、光掩膜并称为“光刻三剑客”。光刻胶在显影液中的动态表现，直接影响着电路绘制的精准度与质量。需知，光刻胶哪怕仅有1%的良率波动，都可能导致数千万美元的损失。

长期以来，全球光刻胶产业一直处于日本企业的垄断之下。像日本的东京应化工业（TOK）、合成橡胶（JSR）、信越化学、富士胶片等企业，它们合计占据了全球75%以上的市场份额，在高端极紫外（EUV）光刻胶领域的占比更是高达96.7%。

不过，随着中国光刻胶技术的不断发展，日本企业的垄断地位正面临着严峻挑战。《日本经济新闻网》曾报道称：“我们的市场份额正在被中国企业逐步蚕食。”那么国产光刻胶，到底与日本还有多大差距？

其实，中国半导体产业正在学习日本的发展模式。

当初，日本索尼从美国西方电气公司购买了晶体管的专利授权，开发出的索尼TR-55型号的微型收音机在日本国内外引起抢购，拉开了日本半导体产业的序幕。

日立、三菱、富士通、东芝、NEC五大公司联合日本科学家攻克电子束装置和微缩曝光装置、可变尺寸电子束装置、扫描装置和复印装置、基础材料等技术，在日本建立了半导体全产业链。后期日本两度受到美方压制，依然靠着供应链优势继续在芯片产业上扩张。

当下，中国半导体产业在借鉴日本发展经验的基础上，凭借官方资源与基金的支持，着力推动从上游原材料供应至后端制造的全产业链发展，并重点扶持了中芯国际、长江存储、中微半导体等行业领军企业。

相关产业统计数据表明，2023年中国光刻胶市场规模约达109.2亿元，至2024年已突破114亿元。在股票市场中，A股相关企业股价屡创新高，中芯国际股票迎来涨停潮，寒武纪股价在三个月内实现翻倍增长。这一发展态势，似是印证了“师夷长技以制夷”的理念。

除光刻胶等产品领域外，中国大硅片产业亦逐步打破了日本企业的市场垄断局面。当前，市场上95%的多晶硅以及96%的光伏硅片产能，均由中国企业供应。

今年，在美方对我国科技领域进行多方围追堵截之时，日方做出“落井下石”之举，突然宣布对我国实施极紫外（EUV）光刻胶出口管制。实事求是而言，我国目前在光刻胶领域的优势主要集中在中端市场，高端EUV光刻胶对于我国来说，仍是颇具挑战的难关。

面对日方这种不友好的举动，我方充分发挥智慧，选择“换道突围”的策略。武汉太紫微的T150A光刻胶，凭借自创的“分子烘焙法”巧妙绕开了日本专利。该光刻胶在中芯国际28纳米产线上表现卓越，芯片良率从89%一路提升至93.7%，以实实在在的数据证明了技术上的突破。

学界也传来令人欣喜的消息：北京大学彭海琳教授团队运用冷冻电镜技术，成功减少了光刻缺陷，为光刻胶材料研发开辟了新的途径。清华大学团队的“量子点光刻胶”已申请国际专利。这表明我们不再仅仅是追赶者，也在积极开创属于自己的技术路线。

历史早已证明，技术封锁或许能够在一定程度上延缓我国技术发展的进程，但无法磨灭中国突破重重桎梏的坚定决心。正如华为任总所言：“我们走在无人区，前面没有灯塔，但我们可以成为自己的灯塔。”