台积电前研发领军人物杨光磊先生指出，中国大陆自主研发的氟化氩光刻机完全具备潜力生产8纳米级别的芯片。回溯历史，台积电首代7纳米芯片的诞生也并未依赖EUV光刻技术，这充分证明大陆光刻机在理论层面胜任8纳米制程的挑战。当然，实际生产中的良品率及功能性能表现还需进一步实证与优化。重要的是，高科技领域的发展全球共通，皆是不断探索、从无到有、由简入繁、再化繁为简的艰辛历程。只要方向明确，技术瓶颈的突破不过是时间积累下的必然结果。
台积电前研发领军人物杨光磊先生指出，中国大陆自主研发的氟化氩光刻机完全具备潜力生
熙熙的趣事
2024-09-25 13:03:29
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