中国产光刻机成功申请7纳米工艺光刻机制造专利！ 工欲善其事必先利其器！这样的的

中国产光刻机成功申请7纳米工艺光刻机制造专利！ 工欲善其事必先利其器！这样的的行动，不仅是国内产业的一次重大发展，更是全球科技格局即将发生改变的前奏。估计离芯片白菜价时代不远了！ 当下的光刻机至关重要，一切智能设备离开它寸步难行。细细想来，光刻机就像一个微缩版的工匠，利用高能激光束，把设计图案用光敏材料制成微观的电路图。想象一下，数以百亿计的小图案在一个指甲盖大小的硅片上精准定位，最终形成你我手中手机的芯片，是晶体管数量发生质变的又一例子。 这一过程犹如艺术家在画布上挥动的画笔，微雕家神雕的艺术品，细致入微难以想象。 光刻机的技术水平直接决定了芯片的制造能力。高端光刻机的出现，让芯片制造的分辨率和效率大幅提升。 全球范围内，只有少数几家企业具备制造顶尖光刻机的能力。其中，来自荷兰的ASML公司几乎垄断了这一市场。ASML被认为是光刻机的“至尊”，而中国却在悄然兴起，似乎在打破这一垄断。任何产品迭代最重要，中国既然能够做出7nm制程工艺的芯片，难道还离3nm远吗！据有些机构预测判定华为的mate70手机已经达到了4-5nm水平。再说我的7nm流畅程度比你4nm效果都好，这更是一种能力！另外用14nm或者28nm的光刻机做出7nm及5nm工艺制程的芯片这不要怀疑。