日本光刻胶禁令1月31日生效，武汉太紫微电光实验室当天宣布T150光刻胶量产验证通过。一个东方大国在半导体领域又迈出了一大步。 太紫微电光实验室成立于2024年5月，在不到5个月的时间里，凭借自己的力量攻克光刻胶这一“卡脖子”技术难题，研发出全自主设计的T150 A光刻胶，极限分辨率120nm，性能稳定，量产验证通过。 这当然是个好消息，但全球半导体产业竞争不会因为你的进步而停止脚步。你欣赏百花齐放，我也会随时准备拔剑封喉。
日本光刻胶禁令1月31日生效，武汉太紫微电光实验室当天宣布T150光刻胶量产验证
陈永皓说科技
2025-03-14 14:03:44
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